本文關(guān)鍵詞：復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵大范圍高精度光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：隨著微納技術(shù)的不斷發(fā)展,其特征尺寸逐漸由微米量級(jí)向亞微米、納米量級(jí)延伸,對(duì)光刻分辨力提出了越來越高的要求。傳統(tǒng)投影式光刻方法依靠縮短曝光波長、提高數(shù)值孔徑來提升光刻分辨力。但是,隨著光刻分辨力達(dá)到32nm以下,傳統(tǒng)提高分辨力的方法面臨技術(shù)極限以及巨額成本的雙重挑戰(zhàn)。在此形勢下,以納米壓印、表面等離子體光刻等為代表的新型光刻技術(shù)由于低成本、高分辨力等優(yōu)點(diǎn),受到業(yè)界普遍關(guān)注。納米壓印技術(shù)已被列入國際半導(dǎo)體發(fā)展藍(lán)圖,被認(rèn)為是22nm及以下節(jié)點(diǎn)的重要候選技術(shù)。對(duì)準(zhǔn)技術(shù)是光刻三大核心技術(shù)之一,目前主流的高精度光刻對(duì)準(zhǔn)方法仍集中在傳統(tǒng)投影曝光系統(tǒng)。作為下一代光刻技術(shù)的典型代表,納米壓印、表面等離子體光刻等接近接觸式光刻缺乏與之相適應(yīng)的高精度對(duì)準(zhǔn)方法以滿足器件加工的需要。在此背景下,針對(duì)納米壓印等接近接觸式光刻工作特點(diǎn),研究對(duì)應(yīng)的高精度對(duì)準(zhǔn)技術(shù)勢在必行。本文基于光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)研究現(xiàn)狀,結(jié)合納米壓印、表面等離子體光刻等接近接觸式光刻對(duì)于高精度、高效率的迫切需求,在前人基于莫爾條紋光刻對(duì)準(zhǔn)研究的基礎(chǔ)上提出了兩種新穎的特殊光柵標(biāo)記的納米光刻對(duì)準(zhǔn)方法,分別利用同一個(gè)光柵標(biāo)記實(shí)現(xiàn)x,y方向的二維同步對(duì)準(zhǔn)與粗、精同步對(duì)準(zhǔn)。本文基于標(biāo)量衍射理論,分析了疊柵調(diào)制成像的一般規(guī)律,探索莫爾條紋的形成機(jī)理;在此基礎(chǔ)上,完成了兩種復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的設(shè)計(jì),建立了雙光柵光刻對(duì)準(zhǔn)模型;采用基于二維光柵的光刻對(duì)準(zhǔn)方法,利用同一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記實(shí)現(xiàn)二維高精度同步對(duì)準(zhǔn);采用基于復(fù)合光柵的光刻對(duì)準(zhǔn)方法,同一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記下實(shí)現(xiàn)粗、精高精度同步對(duì)準(zhǔn)。在兩種對(duì)準(zhǔn)方法仿真分析的基礎(chǔ)上進(jìn)一步搭建了光學(xué)對(duì)準(zhǔn)平臺(tái)系統(tǒng)驗(yàn)證了兩種復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)方法的可行性和合理性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:二維Ronchi光柵對(duì)準(zhǔn)方法測量誤差在22nm以下,重復(fù)對(duì)準(zhǔn)精度達(dá)到20nm;而復(fù)合光柵對(duì)準(zhǔn)方法測量誤差在14nm以下,重復(fù)對(duì)準(zhǔn)精度也可達(dá)到15nm。
【關(guān)鍵詞】：復(fù)合光柵 光刻 對(duì)準(zhǔn) 莫爾條紋
【學(xué)位授予單位】：中國科學(xué)院研究生院(光電技術(shù)研究所)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號(hào)】：TN305.7
【目錄】：

• 致謝3-5
• 摘要5-6
• ABSTRACT6-10
• 第1章 緒論10-26
• 1.1 引言10-11
• 1.2 光刻技術(shù)發(fā)展歷程11-14
• 1.2.1 193nm浸沒式光刻技術(shù)12
• 1.2.2 極紫外光刻12-13
• 1.2.3 表面等離子光刻13
• 1.2.4 納米壓印光刻13-14
• 1.3 光刻對(duì)準(zhǔn)方法的進(jìn)展綜述14-24
• 1.3.1 基于強(qiáng)度的探測對(duì)準(zhǔn)方法14-19
• 1.3.1.1 波帶片強(qiáng)度探測對(duì)準(zhǔn)14-15
• 1.3.1.2 光柵衍射激光干涉對(duì)準(zhǔn)15-16
• 1.3.1.3 光柵衍射強(qiáng)度對(duì)準(zhǔn)16-17
• 1.3.1.4 ASML的光柵對(duì)準(zhǔn)方法17-19
• 1.3.2 基于圖像的直接探測對(duì)準(zhǔn)方法19-23
• 1.3.3 國內(nèi)研究現(xiàn)狀23-24
• 1.4 對(duì)準(zhǔn)方法總結(jié)與分析24
• 1.5 論文研究內(nèi)容與結(jié)構(gòu)安排24-26
• 第2章 復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)模型26-36
• 2.1 引言26
• 2.2 莫爾條紋基本原理26-28
• 2.2.1 關(guān)于莫爾效應(yīng)26
• 2.2.2 莫爾條紋調(diào)制成像原理26-28
• 2.3 莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)基本原理28-30
• 2.4 二維Ronchi光柵對(duì)準(zhǔn)模型30-32
• 2.4.1 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記30
• 2.4.2 二維Ronchi光柵對(duì)準(zhǔn)模型30-32
• 2.5 二維Ronchi光柵對(duì)準(zhǔn)模型32-35
• 2.5.1 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記32
• 2.5.2 復(fù)合光柵對(duì)準(zhǔn)模型32-35
• 2.6 本章小結(jié)35-36
• 第3章 二維Ronchi光柵莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)仿真分析36-41
• 3.1 引言36
• 3.2 二維Ronchi光柵對(duì)準(zhǔn)仿真分析36-40
• 3.3 本章小結(jié)40-41
• 第4章 復(fù)合光柵莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)仿真分析41-45
• 4.1 引言41
• 4.2 復(fù)合光柵對(duì)準(zhǔn)仿真分析41-44
• 4.3 本章小結(jié)44-45
• 第5章 實(shí)驗(yàn)研究與誤差分析45-59
• 5.1 引言45
• 5.2 實(shí)驗(yàn)過程簡介45-46
• 5.3 實(shí)驗(yàn)裝置與參數(shù)46-48
• 5.4 對(duì)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)48-58
• 5.4.1 二維Ronchi光柵對(duì)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)研究48-51
• 5.4.2 二維光柵對(duì)準(zhǔn)重復(fù)性實(shí)驗(yàn)研究51-52
• 5.4.3 復(fù)合光柵對(duì)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)研究52-56
• 5.4.4 復(fù)合光柵對(duì)準(zhǔn)重復(fù)性實(shí)驗(yàn)研究56-57
• 5.4.5 實(shí)驗(yàn)結(jié)果誤差分析57-58
• 5.5 本章小結(jié)58-59
• 第6章 總結(jié)和展望59-61
• 6.1 總結(jié)59
• 6.2 展望59-61
• 參考文獻(xiàn)61-67
• 作者簡介及在學(xué)期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與研究成果67-68

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 馬平;胡松;周紹林;徐文祥;;干涉空間相位光刻對(duì)準(zhǔn)方法研究[J];微納電子技術(shù);2010年10期

2 楊鵬翔;秦永元;周琪;趙長山;;基于歐拉角微分模型的捷聯(lián)慣導(dǎo)直接非線性對(duì)準(zhǔn)方法[J];傳感技術(shù)學(xué)報(bào);2011年03期

3 覃方君;李安;許江寧;;基于正逆向與降噪的捷聯(lián)慣導(dǎo)改進(jìn)快速對(duì)準(zhǔn)方法（英文）[J];中國慣性技術(shù)學(xué)報(bào);2014年04期

4 周廣濤;陳明輝;劉星伯;孫佳;;新的兩位置組合對(duì)準(zhǔn)方法研究[J];傳感器與微系統(tǒng);2008年09期

5 王小強(qiáng);賈鶴鳴;;捷聯(lián)慣導(dǎo)動(dòng)基座快速精對(duì)準(zhǔn)方法[J];自動(dòng)化技術(shù)與應(yīng)用;2013年11期

6 李京書;許江寧;覃方君;查峰;;非線性EKF對(duì)準(zhǔn)方法進(jìn)行正逆向分析的應(yīng)用[J];彈箭與制導(dǎo)學(xué)報(bào);2014年03期

7 荊騰;汪玲;;一種基于Tsallis熵的逆合成孔徑雷達(dá)距離對(duì)準(zhǔn)方法[J];數(shù)據(jù)采集與處理;2014年04期

8 馮曉國;孫連春;;凹球面球心與旋轉(zhuǎn)軸線對(duì)準(zhǔn)方法[J];哈爾濱工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào);2006年10期

9 李玉琴;;基于拋物線擬合的雷達(dá)網(wǎng)時(shí)間對(duì)準(zhǔn)方法研究[J];科技視界;2012年35期

10 ;[J];;年期

中國碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前1條

1 司新春;復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵大范圍高精度光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)研究[D];中國科學(xué)院研究生院(光電技術(shù)研究所);2016年

  本文關(guān)鍵詞：復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵大范圍高精度光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)研究，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號(hào)：282871