有機(jī)摻雜器件中新奇的磁響應(yīng)及物理微觀過程
【學(xué)位授予單位】:西南大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:TN383.1
【圖文】:
1.1 有機(jī)發(fā)光二極管有機(jī)發(fā)光二極管(organic light-emitting diode,OLED)又稱有機(jī)電致發(fā)光器件,是指以有機(jī)材料做發(fā)光層,在電場作用下實(shí)現(xiàn)電致發(fā)光的器件。對有機(jī)發(fā)光二極管的研究最早可追溯到 1963 年,M. Pope 等人和 R. E. Visco 等人將大于 400V 的直流高壓加到微米級(jí)厚度(10-20 μm)的蒽單晶片兩側(cè),觀測到了微弱的藍(lán)色電致發(fā)光。[1]由于早期的 OLED 存在單晶材料生長困難、器件壽命較短且具有極高的開啟電壓等問題,很難得到進(jìn)一步的發(fā)展與應(yīng)用。[2,3]1987 年,鄧青云博士(C. W.Tang)發(fā)明了包含空穴和電子傳輸層的有機(jī)雙層薄膜 OLED,解決了陰陽兩極與有機(jī)材料功函數(shù)的匹配問題,防止了電極對發(fā)光的淬滅,提高了載流子復(fù)合的效率,降低了開啟電壓,標(biāo)志著有機(jī)發(fā)光二級(jí)管進(jìn)入大規(guī)模地研發(fā)和實(shí)用階段,使之成為具有競爭力的新一代平板顯示技術(shù)。[4]現(xiàn)階段,眾多公司也將大量人力和資金投入到該領(lǐng)域開發(fā)研究,主要有日本 Sony、韓國 Samsung、LG、美國 IBM 以及國內(nèi)的京東方、華星光電等公司。
圖 1.2 OLED 工作過程示意圖OLED 的發(fā)光過程如圖 1.2 所示,[6](1)空穴(hole)和電子(electron)會(huì)分別從陽極和陰極注入,其中空穴注入到空穴傳輸層最高占據(jù)能級(jí)(Highest OccupiedMolecular Orbital , HOMO) ,電子注入到電子傳輸層最低空置能級(jí) (LowestUnoccupied Molecular Orbital,LUMO); (2)給器件施加偏壓,各有機(jī)功能層分子的HOMO 和 LUMO 均將發(fā)生能帶傾斜,在電場作用下正負(fù)載流子分別經(jīng)空穴傳輸層和電子傳輸層相向輸運(yùn);(3) 電子空穴到達(dá)發(fā)光層,經(jīng)復(fù)合形成位于不同分子上的單、三重態(tài)的電子-空穴對(又稱極化子對),電子空穴進(jìn)一步靠近形成位于同一分子上的單、三重態(tài)激子;(4)熒光材料的單重態(tài)激子退激輻射發(fā)出熒光,磷光材料的三重態(tài)激子退激輻射發(fā)出磷光。雖然隨著研究工作的不斷深入,人們對 OLED 發(fā)光過程有了一定的認(rèn)識(shí),但 OLED 仍存在如穩(wěn)定性差、壽命較短等問題,為了進(jìn)一步提高OLED的器件性能,需要借助一定的研究手段對發(fā)光機(jī)制進(jìn)行進(jìn)一步探索,開發(fā)新的有機(jī)發(fā)光材料和發(fā)光器件結(jié)構(gòu)等。器件中電子空穴復(fù)合成激發(fā)態(tài)發(fā)光,激發(fā)態(tài)根據(jù)電子和空穴距離的大小可分為極化子和激子,電子和空穴的自旋量子數(shù)均為 1/2,因此雙電荷系統(tǒng)總自旋量子
載流子在有機(jī)材料中輸運(yùn)的過程會(huì)受到周圍氫原子核自旋形成的超精細(xì)場(BHF)的作用,引起載流子自旋的翻轉(zhuǎn),這個(gè)過程就是超精細(xì)相互作用。由于在大多數(shù)熒光材料中,三重態(tài)激子的生成速率 kt大于單重態(tài)激子的生成速率 ks,因此多數(shù)有機(jī)分子的極化子對間發(fā)生的是 ISC 過程。單重態(tài)激子與三重態(tài)激子間能級(jí)差較大,較難發(fā)生 ISC 或 RISC 過程,但最近發(fā)現(xiàn)在一些特殊材料(熱輔助延遲熒光材料)中,其能級(jí)差相對較小,可以實(shí)現(xiàn) RISC 過程。在上述理論的基礎(chǔ)上,研究人員對線型如圖 1.3(c)中所示的磁響應(yīng)曲線進(jìn)行了解釋。從自旋角度來看,對單個(gè)載流子而言,當(dāng)無外加磁場作用時(shí),超精細(xì)場的取向不定,載流子自旋取向也是隨機(jī)的。當(dāng)施加大于超精細(xì)場的外加磁場時(shí),總磁場取向趨向外磁場,載流子的自旋受總磁場限制,翻轉(zhuǎn)幾率減小,也就是說 ISC 和 RISC過程會(huì)隨著外加磁場增大而減弱。而對于極化子和激子這種雙電荷系統(tǒng),當(dāng)無外加磁場作用時(shí),電子、空穴自旋均受到超精細(xì)場的影響,但兩者受到的影響略有不同,其中受超精細(xì)場影響較大的一方更容易自旋翻轉(zhuǎn),實(shí)現(xiàn) ISC 或 RISC 過程。而當(dāng)施加外加磁場之后,二者的進(jìn)動(dòng)頻率趨于一致,自旋翻轉(zhuǎn)幾率降低,即外加磁場對ISC 和 RISC 過程有抑制作用。
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