激光誘導(dǎo)等離子體微納加工
【學(xué)位授予單位】:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TN249;TG139.8
【圖文】:
- 3-圖 1-1 LIGA 工藝流程LIGA 技術(shù)的優(yōu)勢:與其它微納結(jié)構(gòu)制備方法相比,LIGA 技術(shù)具有如下特點(diǎn):(1)可制造高深徑比的圖形結(jié)構(gòu),LIGA 技術(shù)成為唯一可以制作深結(jié)構(gòu)微系統(tǒng)技術(shù);(2)取材廣泛,可以是金屬、玻璃、高分子有機(jī)聚合物等;(3)可用來不同幾何截面形狀的圖形結(jié)構(gòu)的制備;(4)可重復(fù)使用,符合工業(yè)上大批量生產(chǎn)要求,制造成本低廉等。LIGA 技術(shù)的局限性:盡管 LIGA 技術(shù)可以制作深寬比較大、邊壁陡直的微細(xì)結(jié)構(gòu),但是還是存在許多因素限制其發(fā)展獲得更高的精度。
圖 1-4 Lithography 加工原理示意圖Lithography 加工技術(shù)的特點(diǎn):(1)大批量生產(chǎn),符合工業(yè)化運(yùn)用的需求。(2)已經(jīng)集成智能化設(shè)備,整個(gè)過程耗費(fèi)的人力物力較少。(3)使用其他曝光技術(shù)(電子束、X 射線、極紫外)來代替?zhèn)鹘y(tǒng)光學(xué),隨著曝光技術(shù)本身的不斷改進(jìn)與革命,使加工分辨率得到進(jìn)一步提升,突破了原來的 0.5 μm 加工分別率極限而且進(jìn)入了百納米范圍內(nèi)的納米加域[38]。Lithography 加工技術(shù)的局限性:(1)光刻工藝復(fù)雜,將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基底上通常要經(jīng)過涂膠光、顯影、刻蝕等 10 多步工藝流程,相較之其他加工方法,步驟顯得繁瑣中一步出了差錯(cuò),整個(gè)工藝過程都將報(bào)廢。(2)通常在刻蝕中使用的是 CF4、SF6等氣體,這些氣體都是有毒氣體且化學(xué)反應(yīng)生成的 SiXFy物質(zhì)也是有毒物質(zhì),所以整個(gè)加工過程并不復(fù)合
哈爾濱工業(yè)大學(xué)工程碩士學(xué)位論文處的功率密度超過燒蝕閾值,產(chǎn)生多光子吸收和電離,使得加工確的空間定位能力,實(shí)現(xiàn)透明材料內(nèi)部的任意位置的三維超精光加工的局限性:1)激光加工不可避免在材料加工區(qū)域造成了熱損傷、表面重鑄微裂紋等缺陷,圖 1-5 為采用納秒激光所制備微孔的掃描電鏡圖a)可以清晰看得到微孔周圍留下一個(gè)圓環(huán)狀的熱作用區(qū),緊靠孔糙且不平整;圖 1-5 b)所示的微口處出現(xiàn)的粗糙區(qū)域是由熔化飛凝結(jié)為固體小顆粒堆積而成,這勢必會(huì)對材料的力學(xué)性能、壽命產(chǎn)生很大影響。對于電子器件來說,材料的加工缺陷會(huì)顯著影響用性能和壽命。集成電路板同時(shí)搭載著數(shù)以萬計(jì)的微型電子器件壽命就決定了整個(gè)電路板的性能高低,因此高質(zhì)量的加工手段顯
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