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大口徑光學(xué)元件體缺陷檢測技術(shù)研究

發(fā)布時(shí)間:2020-08-06 12:42
【摘要】:現(xiàn)代大型光學(xué)工程的快速發(fā)展對光學(xué)元件的加工質(zhì)量提出了嚴(yán)苛的要求。特別是用于激光聚變的大口徑光學(xué)元件,要求具備大口徑、高面形精度、超光滑、低缺陷的要求。高功率激光裝置中的光學(xué)元件如含有體缺陷,會對入射激光進(jìn)行調(diào)制,降低光束輸出質(zhì)量和光學(xué)元件負(fù)載能力,甚至導(dǎo)致元件自身或下游元件出現(xiàn)損傷。為了保證高功率激光驅(qū)動器的平穩(wěn)運(yùn)行,迫切需要開展針對大口徑光學(xué)元件體缺陷的檢測技術(shù)研究,并建立滿足工程需求的批量化檢測能力。本文針對大口徑光學(xué)元件振幅型體缺陷的檢測,整合現(xiàn)有檢測方法的優(yōu)勢,采取了分步檢測的技術(shù)路線,提出了定性識別與定量檢測迭代結(jié)合的復(fù)合模式檢測方案。第一步,基于暗場散射成像技術(shù)對振幅型體缺陷進(jìn)行識別并定位。采用片狀激光在暗場環(huán)境下從光學(xué)元件側(cè)面照明,通過成像模塊沿通光面快速掃描識別缺陷,并初步記錄缺陷信息;為提高識別準(zhǔn)確性,設(shè)計(jì)了排除缺陷鏡像的方法;第二步,基于明場顯微成像技術(shù)沿通光面對已知缺陷進(jìn)行輪廓提取。采用LED白光源從光學(xué)元件后表面照明,對缺陷進(jìn)行顯微成像;采用了基于圖像清晰度評價(jià)的自動對焦算法,保證成像系統(tǒng)獲取準(zhǔn)確對焦的缺陷圖像;設(shè)計(jì)了缺陷的輪廓提取算法,實(shí)現(xiàn)對缺陷特征的定量表征。為驗(yàn)證本文檢測方案的有效性,設(shè)計(jì)并研制了針對大口徑光學(xué)元件振幅型體缺陷檢測系統(tǒng)。根據(jù)檢測需求,將檢測系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)進(jìn)行了分解設(shè)計(jì),對光源照明模塊、圖像采集與控制模塊、高精度位移平臺等部件進(jìn)行了功能設(shè)計(jì)。為提高檢測效率,對成像模塊掃描路徑及照明口徑進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)。基于檢測系統(tǒng),開展了缺陷識別能力、缺陷定位精度、缺陷提取精度、效率提升的驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),檢測系統(tǒng)識別缺陷的能力優(yōu)于人眼,定位偏差不大于1.3mm;缺陷提取結(jié)果與顯微鏡偏差不超過7.2%;采用本文效率提升方案掃描口徑為400mm×400mm×50mmm的元件,檢測效率提升最大51倍。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,本文檢測方法可用于對大口徑光學(xué)元件振幅型體缺陷的識別與提取,研制的檢測系統(tǒng)適用于大口徑光學(xué)元件振幅型體缺陷的工程化檢測。
【學(xué)位授予單位】:中國工程物理研究院
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TP391.41;TN24;TN60
【圖文】:

整體布局,整體布局


為爭取早日實(shí)現(xiàn)創(chuàng)造潔凈能源的夢想,世界部分國家也在積極開展ICF激光驅(qū)的建設(shè)工作,同時(shí)開展了針對驅(qū)動器大口徑光學(xué)元件的加工與檢測技術(shù)研宄。表1.世界主要國家用于ICF研究的激光裝置建設(shè)進(jìn)展。逡逑邐邐邋表1.邋2世界用于ICF的高功率激光裝置邐國家邐實(shí)驗(yàn)室邐裝置邋能量(kj)邐脈寬(ns)邐束數(shù)邐建成時(shí)美國邐LLNL邐NIF邐1800邐(3邐w)邐3 ̄5邐192邐2008逡逑法國邐CEAJ)AM邐LMJ邐2400邐(3邐w)邐3 ̄5邐240邐2010逡逑俄羅斯邐VNIIEF邐Iskra-6邐300邋(3邋0j)邐1 ̄3邐128邐?逡逑日本邐ILE邐Gekko邋XII邋20(3w)邐0.邋1 ̄1邐12邐1983逡逑中國邐CAEP邐神光-III邐60邋(3邐邋3邐64邐2010逡逑為實(shí)現(xiàn)ICF點(diǎn)火成功,要求大口徑光束會聚成尺寸足夠小、能量均勻的光斑進(jìn)場^。因此,用于慣性約束聚變的高功率激光裝置對光學(xué)元件的質(zhì)量要求達(dá)到了制造的極端水平,應(yīng)同時(shí)滿足大口徑、超光滑、高面形精度、低缺陷等質(zhì)量要

輪廓,缺陷,透射波,聲波


千涉法側(cè)缺陷輪廓圈

示意圖,面缺陷,示意圖


夾雜物等邐f邋I邐.邋x,逡逑圖1.邋3超聲波探測材料缺陷示意圖逡逑如圖1.4所示,光學(xué)相干層析通過分析元件不同深度區(qū)域反射光與參考光的千涉逡逑信號,獲得樣品某深度層的形貌信息;該方法橫向分辨率不高,通過改變光源的相逡逑干長度,可提高縱向分辨力,但可探測縱向深度只有數(shù)毫米[15-18]。斷層掃描過程會逡逑耗費(fèi)較長檢測時(shí)間,測量效率較低,僅可檢測小口徑樣品的檢測,不適用于大尺寸逡逑元件測量。逡逑JLin^r逡逑——-^wj逡逑Measure邋circuit邐jj邋—邋邋)Jf逡逑邐];邐邐邐邋r邋^逡逑’一 ̄^邐^Lateral逡逑A/DCsti邐_邋Cwnpolcr邐transhtini逡逑圖1.4相干層析檢測表面缺陷示意圖逡逑Choi邋W邐等在2013年利用光熱效應(yīng)實(shí)現(xiàn)了對光學(xué)薄膜中的吸收性缺陷的探測,逡逑獲取了缺陷分布;如圖1.5所示,該方法采用一束泵浦光(波長為808nm)輻射樣品表逡逑5逡逑

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