大口徑光學(xué)元件體缺陷檢測技術(shù)研究
【學(xué)位授予單位】:中國工程物理研究院
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TP391.41;TN24;TN60
【圖文】:
為爭取早日實(shí)現(xiàn)創(chuàng)造潔凈能源的夢想,世界部分國家也在積極開展ICF激光驅(qū)的建設(shè)工作,同時(shí)開展了針對驅(qū)動器大口徑光學(xué)元件的加工與檢測技術(shù)研宄。表1.世界主要國家用于ICF研究的激光裝置建設(shè)進(jìn)展。逡逑邐邐邋表1.邋2世界用于ICF的高功率激光裝置邐國家邐實(shí)驗(yàn)室邐裝置邋能量(kj)邐脈寬(ns)邐束數(shù)邐建成時(shí)美國邐LLNL邐NIF邐1800邐(3邐w)邐3 ̄5邐192邐2008逡逑法國邐CEAJ)AM邐LMJ邐2400邐(3邐w)邐3 ̄5邐240邐2010逡逑俄羅斯邐VNIIEF邐Iskra-6邐300邋(3邋0j)邐1 ̄3邐128邐?逡逑日本邐ILE邐Gekko邋XII邋20(3w)邐0.邋1 ̄1邐12邐1983逡逑中國邐CAEP邐神光-III邐60邋(3邐邋3邐64邐2010逡逑為實(shí)現(xiàn)ICF點(diǎn)火成功,要求大口徑光束會聚成尺寸足夠小、能量均勻的光斑進(jìn)場^。因此,用于慣性約束聚變的高功率激光裝置對光學(xué)元件的質(zhì)量要求達(dá)到了制造的極端水平,應(yīng)同時(shí)滿足大口徑、超光滑、高面形精度、低缺陷等質(zhì)量要
千涉法側(cè)缺陷輪廓圈
夾雜物等邐f邋I邐.邋x,逡逑圖1.邋3超聲波探測材料缺陷示意圖逡逑如圖1.4所示,光學(xué)相干層析通過分析元件不同深度區(qū)域反射光與參考光的千涉逡逑信號,獲得樣品某深度層的形貌信息;該方法橫向分辨率不高,通過改變光源的相逡逑干長度,可提高縱向分辨力,但可探測縱向深度只有數(shù)毫米[15-18]。斷層掃描過程會逡逑耗費(fèi)較長檢測時(shí)間,測量效率較低,僅可檢測小口徑樣品的檢測,不適用于大尺寸逡逑元件測量。逡逑JLin^r逡逑——-^wj逡逑Measure邋circuit邐jj邋—邋邋)Jf逡逑邐];邐邐邐邋r邋^逡逑’一 ̄^邐^Lateral逡逑A/DCsti邐_邋Cwnpolcr邐transhtini逡逑圖1.4相干層析檢測表面缺陷示意圖逡逑Choi邋W邐等在2013年利用光熱效應(yīng)實(shí)現(xiàn)了對光學(xué)薄膜中的吸收性缺陷的探測,逡逑獲取了缺陷分布;如圖1.5所示,該方法采用一束泵浦光(波長為808nm)輻射樣品表逡逑5逡逑
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本文編號:2782415
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