基于聚合物混合體系的薄膜晶體管及其氣敏特性的研究
【學位授予單位】:電子科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2019
【分類號】:TN321.5
【圖文】:
薄膜晶體管及其氣體傳感器不斷深入,已經(jīng)形成了一套從其器一步地,在氣體傳感器的研究中,本參數(shù)指標已經(jīng)確立,同時敏感材從上述各個方面對 OTFT 及其氣體的器件結構端器件,OTFT 的基本結構可以看iconductor, MIS)結構衍生而來。如層與金屬層(柵極)之間,構成了層的費米能級,使半導體層中的能層的界面處載流子累積或耗盡,最
(c) (d) 四種 OTFT 基本結構的示意圖 (a) 頂柵底接觸;(b) 頂柵頂接觸;(c) 接觸;(d) 底柵頂接觸(Gate、Source、Drain 為柵、源、漏電極,Die為介電層,Organic Semiconductor 為有機半導體層,Substrate 為襯底)注意的是,OTFT 的器件結構有可能對器件性能產(chǎn)生顯著的影柵結構,頂柵型器件具有如下優(yōu)點:(1)柵電極與源、漏電極的打印工藝制備;(2)由于柵電極與介電層都沉積在半導體層產(chǎn)生了“自封裝”的效果,可以有效地減緩器件工作時環(huán)境變的影響,提升了器件的工作穩(wěn)定性。另一方面,如果考慮制備壞下方的有機半導體層,則底柵型器件更為適用。此外,就金件采用共面式(coplanar)結構,即源、漏電極與溝道位于半導的接觸電阻更大,因此采用交錯式(staggered)結構,即源、漏半導體層兩側更佳[83]。因此,在實際應用中應根據(jù)具體的參數(shù)件結構。
工作時的電流電壓關系分為兩種,輸出特性、轉移源漏電壓和柵極電壓的變化。器件的工作模式可以道(gradual channel)”理論模型來近似分析,由于遠小于垂直方向的電場,即需要長溝道器件,常見微米至數(shù)十微米,符合長溝道條件。該模型中,隨壓輸出特性經(jīng)歷從線性區(qū)(linear regime)逐漸到飽,如圖 2-3(a)所示。其中,線性區(qū)是指 VDS遠小于于電阻,電流隨著 VDS增長而線性增加;當 VDS達一個高阻區(qū)不斷耗盡載流子,使得溝道呈夾斷(pi著 VDS的增長而增加,趨于飽和值,即進入飽和區(qū)G的關系,則會得到如圖 2-3(b)所示的轉移特性曲線重要參數(shù),包括:閾值電壓(threshold voltage, VT)obility, )、開態(tài)電流(on current, Ion)、關態(tài)電流(f ratio, Ion/Ioff)、開啟電壓(Von)、亞閾值擺幅( swing, SS)。
【相似文獻】
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