抗輻照DAC芯片LDO電路和版圖設(shè)計(jì)
【學(xué)位授予單位】:西安電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN402
【圖文】:
所以傳統(tǒng) LDO 通過片外電容及其等零點(diǎn) Zesr,來抵消 PEA對系統(tǒng)穩(wěn)定性的影響。系對系統(tǒng)造成影響,需要將其置于單位增益帶寬之統(tǒng)保持穩(wěn)定。 負(fù)載瞬態(tài)響應(yīng)分析是衡量 LDO 性能的重要參數(shù)之一,LDO 電路作O 為數(shù)字模塊電路提供電源電壓時(shí),由于數(shù)字電零到滿載或者從滿載到零的突變,此時(shí)良好的 LDLDO 通常會在片外接一個(gè)微法級的大電容,該大對于 LDO 系統(tǒng)的瞬態(tài)響應(yīng)同樣意義非凡,它可充電來減小因調(diào)整管不能及時(shí)響應(yīng)負(fù)載變化而引以用圖 2.4 的 LDO 瞬態(tài)波形示意圖來分析傳統(tǒng)
西安電子科技大學(xué)碩士學(xué)位論文14圖3.3 環(huán)柵結(jié)構(gòu) NMOS 管版圖其中中間環(huán)形結(jié)構(gòu)是柵,環(huán)柵內(nèi)部的有源區(qū)是晶體管的漏端,環(huán)柵外圍的有源區(qū)是晶體管的源端,本文所設(shè)計(jì)的環(huán)柵結(jié)構(gòu)是在截角正多邊形的基礎(chǔ)上增加左右兩條邊的長度,這對環(huán)柵晶體管等效寬度的影響是:在其基礎(chǔ)上增加左右兩條邊的等效寬度,并不影響其在拐角處的等效寬度,因此本文在文獻(xiàn)[8]所提出的等效公式上進(jìn)行修改之后為:W 2 ( L L) L 4( d 2 L) 2a(3-1)其中 為擬合系數(shù)一般為 0.05,d 為內(nèi)部正多邊形的邊長,a 為相較于正多邊形增加的邊長長度。另外,環(huán)柵晶體管的柵長度等效為源漏之間的最小距離,在每個(gè)管子都有自己的阱接觸環(huán)和 ISO 隔離保護(hù)環(huán)
【參考文獻(xiàn)】
相關(guān)期刊論文 前6條
1 胡玉松;馮全源;;一種高增益快速響應(yīng)且無片外電容型LDO設(shè)計(jì)[J];電子器件;2015年02期
2 陳海波;吳建偉;李艷艷;謝儒彬;朱少立;顧祥;;總劑量加固對SOINMOS器件抗輻射特性的影響[J];電子與封裝;2014年12期
3 王常;吳震;鄧朝勇;;一種無片外電容LDO的瞬態(tài)增強(qiáng)電路設(shè)計(jì)[J];電子設(shè)計(jì)工程;2013年04期
4 金梓才;戴慶元;黃文理;;一種基于LDO穩(wěn)壓器的帶隙基準(zhǔn)電壓源設(shè)計(jì)[J];電子器件;2009年06期
5 鄒志革;鄒雪城;雷擰銘;楊詩洋;陳曉飛;余國義;;無電容型LDO的研究現(xiàn)狀與進(jìn)展[J];微電子學(xué);2009年02期
6 高文鈺,嚴(yán)榮良,余學(xué)峰,任迪遠(yuǎn),范隆;MOSFET的電離輻照效應(yīng)[J];半導(dǎo)體學(xué)報(bào);1992年08期
相關(guān)博士學(xué)位論文 前1條
1 王憶;高性能低壓差線性穩(wěn)壓器研究與設(shè)計(jì)[D];浙江大學(xué);2010年
相關(guān)碩士學(xué)位論文 前2條
1 楊變霞;封閉形柵NMOS晶體管的設(shè)計(jì)與器件特性研究[D];電子科技大學(xué);2015年
2 許聰;高PSRR低功耗LDO的設(shè)計(jì)[D];復(fù)旦大學(xué);2012年
本文編號:2739568
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/2739568.html