基于40nmCMOS工藝的高性能抗SET鎖相環(huán)研究與設(shè)計
【圖文】:
使集成電路的功能發(fā)生改變。由于載流子的移動而在集成電路中產(chǎn)生的幅值大時間短的電流,這個電流有很大可能會使得 PNPN 結(jié)導(dǎo)通,引起閂鎖效應(yīng)。圖1.1 單粒子入射根據(jù) SEE 對電子系統(tǒng)的不同影響,可以將其分為單粒子翻轉(zhuǎn)(SEU)和單粒子閂鎖(SEL)以及單粒子瞬變(SET)[4][5]。然而當(dāng)工藝縮減到深亞微米階段以后,一方面,產(chǎn)生 SEU 與 SEL 所需能量大幅下降,而 SET 更容易產(chǎn)生和傳播;另外,SET從產(chǎn)生到消失的時間與信號的時鐘周期越來越接近,使得 SET 脈沖的識別檢測更加困難,因此 SET 對電子系統(tǒng)影響越來越得到人們的關(guān)注與重視。在先進(jìn)的工藝節(jié)點下
圖1.1 單粒子入射根據(jù) SEE 對電子系統(tǒng)的不同影響,可以將其分為單粒子翻轉(zhuǎn)(SEU)和單粒子鎖(SEL)以及單粒子瞬變(SET)[4][5]。然而當(dāng)工藝縮減到深亞微米階段以后,一面,產(chǎn)生 SEU 與 SEL 所需能量大幅下降,而 SET 更容易產(chǎn)生和傳播;另外,SET產(chǎn)生到消失的時間與信號的時鐘周期越來越接近,使得 SET 脈沖的識別檢測更加難,因此 SET 對電子系統(tǒng)影響越來越得到人們的關(guān)注與重視。在先進(jìn)的工藝節(jié)點,SET 發(fā)生的敏感區(qū)域通常是在晶體管漏極附近,,這是因為當(dāng)晶體管截止時漏極的生二極管由于被反向偏置,所形成的耗盡區(qū)能夠不斷的對電荷進(jìn)行收集。最終 SET來的影響是形成被稱為“漏斗”的效應(yīng)[3]。隨著工藝節(jié)點越來越小,尤其是現(xiàn)在進(jìn)納米級這種效應(yīng)更為明顯,這將導(dǎo)致圖 1.2 中 SET 產(chǎn)生的電流持續(xù)時間較長,會帶更為嚴(yán)重的影響。
【學(xué)位授予單位】:西安電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN386;TN911.8
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:2681018
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