【摘要】：針對傳統(tǒng)進化算法在低成品率步進式光刻機的有效調(diào)度問題上因參數(shù)多或局部搜索能力不足導致求解質(zhì)量欠佳的情況,以最小化最大完工時間為優(yōu)化目標,提出了1種反向-災變共生生物搜索算法。在共生生物搜索算法的種群初始化及寄生階段使用反向?qū)W習增加種群多樣性,從而擴展搜索廣度;在算法陷入局部最優(yōu)時進行災變判斷,根據(jù)判斷結(jié)果跳出局部最優(yōu),在下1次迭代的互利共生與偏利共生階段引入變鄰域下降法增加搜索深度。對不同成品率情況進行多種算法的仿真實驗,對比結(jié)果表明,所提算法具有更好的求解質(zhì)量。

【相似文獻】

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1 唐九耀,曹向群,陳鈺清;光刻機的分辨率和對準特性研究[J];光電子·激光;2001年11期

2 ;充分發(fā)揮光刻機功能的研討[J];中國計量學院學報;2001年02期

3 李艷秋;光刻機的演變及今后發(fā)展趨勢[J];微細加工技術;2003年02期

4 嚴利人;光刻機曝光光學中的概念辨析[J];微細加工技術;2003年02期

5 ;國產(chǎn)首臺直寫式光刻機在合肥問世[J];集成電路通訊;2008年01期

6 趙陽;;光刻機常見故障與對策[J];上海電機學院學報;2009年02期

7 蔣薇;趙立新;;光刻機外型設計新理念[J];現(xiàn)代科學儀器;2013年01期

8 ;光刻機座談會在江蘇吳縣召開[J];半導體設備;1977年03期

9 高仰月;間隙設定技術在光刻機中的應用[J];電子工業(yè)專用設備;1987年02期

10 卿典;中科院光電所制成1.5～2μm光刻機[J];紅外;1994年05期

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1 何峰;吳志明;王軍;袁凱;蔣亞東;;襯底材料對光刻機對準精度的影響研究[A];2009年先進光學技術及其應用研討會論文集（上冊）[C];2009年

2 閆觀勇;王向朝;楊濟碩;徐東波;;光刻機空間像的工件臺坐標的校正方法[A];第十四屆全國光學測試學術討論會論文（摘要集）[C];2012年

3 滕偉;柳亦兵;;掃描光刻機硅片臺五自由度激光測量模型[A];第二十九屆中國控制會議論文集[C];2010年

4 王向朝;;光刻機投影物鏡成像質(zhì)量原位檢測技術的研究[A];第十一屆全國光學測試學術討論會論文（摘要集）[C];2006年

5 彭明僑;羅先覺;鄒曉松;;基于改進概率搜索算法的模擬電路故障診斷[A];第四屆中國測試學術會議論文集[C];2006年

6 馬明英9;王向朝;王帆;;一種新的光刻機投影物鏡垂軸像質(zhì)參數(shù)原位檢測技術[A];第十一屆全國光學測試學術討論會論文（摘要集）[C];2006年

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1 潘峰;安徽：國產(chǎn)首臺直寫式光刻機問世[N];中國電子報;2008年

2 哲一;芯碩半導體：亞微米級光刻機“合肥造”[N];中國電子報;2008年

3 本報記者 李治國;“智造”光刻機 十年磨一劍[N];經(jīng)濟日報;2012年

4 張白銀 記者 單傳洪;合肥經(jīng)開區(qū)電子產(chǎn)業(yè)再現(xiàn)新亮點[N];安徽經(jīng)濟報;2010年

5 本報記者 唐瑋婕;研發(fā)緊貼市場,“沿途下蛋”[N];文匯報;2012年

6 本報記者 陳磊 賈婧;以光為刃，，鐫刻中國產(chǎn)業(yè)的“光刻指紋”[N];科技日報;2014年

7 ;EVG：推出全新光刻系統(tǒng)和測試設備[N];中國電子報;2009年

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2 劉巍;基于靈敏度解析函數(shù)的光刻機波像差檢測理論與方法研究[D];華中科技大學;2011年

3 李金龍;ArF浸沒光刻雙工件臺運動模型研究[D];中國科學院研究生院（光電技術研究所）;2013年

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2 顏飛;光刻機微動測量系統(tǒng)數(shù)據(jù)處理方法研究[D];哈爾濱工業(yè)大學;2015年

3 高軒;UV-LED曝光系統(tǒng)及曝光工藝研究[D];北京交通大學;2016年

4 鄒鵬程;光刻機粗精耦合及同步控制算法研究[D];哈爾濱工業(yè)大學;2010年

5 項程;光刻機雙工件臺系統(tǒng)數(shù)學模型的建立與驗證[D];哈爾濱工業(yè)大學;2012年

6 劉旗;步進掃描光刻機工件臺同步誤差校正方法及控制[D];中國科學院研究生院（光電技術研究所）;2013年

7 李聰;光刻機雙工件臺軌跡規(guī)劃算法研究[D];哈爾濱工業(yè)大學;2013年

8 閆華星;雙工件臺光刻機虛擬現(xiàn)實三維仿真平臺設計[D];哈爾濱工業(yè)大學;2012年

9 周沛;光刻機運動平臺功率放大控制卡的設計與實現(xiàn)[D];華中科技大學;2011年

10 曾毅;光刻機精密水溫控制系統(tǒng)的熱結(jié)構(gòu)設計[D];電子科技大學;2012年

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