P波段GaN基功率放大器的設(shè)計及實現(xiàn)
【圖文】:
西安電子科技大學(xué)碩士學(xué)位論文/cm) 0.3 0.4 3.0 εr11.8 13.1 9.7 z) 20 150 20 2) 0.2 0.5 10 可以很直觀地得出 GaN 材料相比于其他強(qiáng)度以及最大的功率密度。同時,其頻率體領(lǐng)域中的一種較為常見的化學(xué)元素,子序數(shù)為 31。化合物 GaN 由氮原子和鎵兩個面心立方套構(gòu)而成,屬于六角密堆鍵,晶體中原子間化學(xué)鍵不同的比例成分重越大則容易產(chǎn)生亞穩(wěn)態(tài)的閃鋅礦結(jié)構(gòu)氮化物半導(dǎo)體材料離子鍵含量較高,所料內(nèi)部晶格結(jié)構(gòu)如圖 2.1 所示。
DS在 GaN 一側(cè)的界面處流動,這些由于外加電壓的作了漏極電流 IDS,因此可以通過外加的電壓的方式達(dá)aN HEMT 器件模型HEMT 器件可以承受很高的電壓,具有很寬的禁帶寬關(guān)速度,所以相對于傳統(tǒng)的 MOS 器件、BJT 器件,頻功率放大器上。器的仿真過程中,模型的準(zhǔn)確性至關(guān)重要,一個準(zhǔn)確路之間的橋梁[18]。GaN HEMT 模型有兩種:在大的和狀態(tài)下,,輸出增益產(chǎn)生壓縮,此時描述晶體管工作圖 2.3 所示;當(dāng)輸入功率較小時,晶體管工作在線性體管工作在小信號狀態(tài)下的模型被稱為小信號模型,立較為容易,為大信號建模提供基礎(chǔ)。
【學(xué)位授予單位】:西安電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN722.75
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:2616376
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