以駐極體為柵介質(zhì)的柔性低壓IGZO薄膜晶體管的研究
【圖文】:
圖1-2-1薄膜晶體管四種常見的結(jié)構(gòu),從左到右依次是底柵頂接觸,底柵底接觸,逡逑頂柵頂接觸,頂柵底接觸[27]逡逑圖1-2-1為薄膜晶體管的典型器件結(jié)構(gòu)。根據(jù)柵極、有源層以及源、漏電極逡逑不同堆砌順序,氧化物薄膜晶體管的器件結(jié)構(gòu)可以劃分為底/頂柵和底/頂接觸逡逑干種不同的組合,一般可分為圖示的四種基本結(jié)構(gòu):底柵頂接觸,底柵底接觸,逡逑柵頂接觸,頂柵底接觸。同時(shí)根據(jù)器件的基本結(jié)構(gòu),可以引入不同的薄膜層以逡逑到不同器件保護(hù)或者制備流程優(yōu)化的目的,比如在源、漏電極圖形化過程中,逡逑常采用濕法刻蝕,然而刻蝕液容易對有源層造成損傷,為了消除這一損傷,常逡逑用的做法是,如若器件采用頂接觸結(jié)構(gòu)則在有源層的上方再引入一層刻蝕阻擋層,,逡逑當(dāng)然這一步驟的引入往往需要增加一道光刻順序,一定程度上造成工藝成本和復(fù)逡逑雜度的增加。逡逑,一。,
南京大學(xué)碩士研究生論文對于頂柵器件,底柵器件柵介質(zhì)的界面形貌會(huì)對有源層的沉積生響,所以此類器件往往對于柵介質(zhì)界面的表面形貌有著較高的要于底柵結(jié)構(gòu)的薄膜晶體管,其通常會(huì)具有較為優(yōu)異的柵介質(zhì)表在制備不同的器件過程中,需要充分考慮薄膜材料的性質(zhì)以及對以滿足不同器件結(jié)構(gòu)的要求。逡逑晶體管的工作原理逡逑0.8邋—?—I—>—I—?—I—?—I—?—I—-—I—逡逑
【學(xué)位授予單位】:南京大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TN321.5
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