發(fā)布時間：2019-11-21 19:32

【摘要】：光刻機的制造建立在一個國家強大的科技實力和工業(yè)基礎(chǔ)之上。光刻機的研發(fā)需要多個學(xué)科的交叉合作。掩模臺在光刻機工作中負責(zé)實現(xiàn)掩模板的精確運動。不斷提升掩模臺運動控制的精度關(guān)系到能否進一步提升光刻機的性能指標(biāo)。掩模臺采用了宏動結(jié)合微動的控制方式,而微動臺又直接體現(xiàn)著掩模臺的控制精度。為實現(xiàn)微動臺的高精度伺服運動,本文主要有以下研究內(nèi)容。本文介紹了當(dāng)前國內(nèi)外光刻機、滑�？刂评碚摷凹夹g(shù)和粒子群學(xué)習(xí)算法的發(fā)展現(xiàn)狀。本文隨后分析了光刻機整機,掩模臺以及微動臺的工作原理,所受擾動,存在誤差以及控制系統(tǒng)的具體實現(xiàn)。其次,光刻機掩模臺微動臺上裝有6個音圈電機和6個霍爾傳感器。根據(jù)電機安裝位置,完成了電機力學(xué)解耦,隨后針對控制過程中質(zhì)心與曝光中心的偏移,提出了質(zhì)心偏移的分析方法,此方法的正確性和有效性得到了仿真實驗的驗證,在測量元件實際安裝幾何尺寸的基礎(chǔ)上,完成了測量耦合模型的建立。再次,針對掩模臺抗擾動的工作要求,設(shè)計了基于指數(shù)趨近率的滑�？刂破�,同時,應(yīng)用粒子群學(xué)習(xí)算法,完成粒子群算法優(yōu)化滑�？刂破鲄�(shù)的算法設(shè)計,并進行實驗驗證。討論了滑模參數(shù)的選擇對于控制效果的影響以及粒子學(xué)習(xí)目標(biāo)函數(shù)的選擇對控制效果的影響。最后,在上述研究內(nèi)容的基礎(chǔ)上,綜合上文解耦與單自由度控制器設(shè)計的研究內(nèi)容,完成了基于力學(xué)耦合與臺體模型的6自由度MIMO滑�？刂葡到y(tǒng)設(shè)計。在仿真實驗的基礎(chǔ)上,討論了解耦矩陣計算和控制器設(shè)計對于多自由度系統(tǒng)精度的影響。
【圖文】：

SSA600/20步進掃描光刻機

SSB245/10投影光刻機表1-2SSA600/20步進掃描光刻機關(guān)鍵指標(biāo)
【學(xué)位授予單位】：哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號】：TP273;TN305.7

【參考文獻】

相關(guān)期刊論文 前2條

1 高鷹;謝勝利;許若寧;李朝暉;;基于聚類的多子群粒子群優(yōu)化算法[J];計算機應(yīng)用研究;2006年04期

2 黃輝先;陳資濱;;一種改進的粒子群優(yōu)化算法[J];系統(tǒng)仿真學(xué)報;2007年21期

相關(guān)博士學(xué)位論文 前1條

1 張山;影響直角坐標(biāo)激光直寫曝光質(zhì)量的若干關(guān)鍵技術(shù)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前1條

1 賈亞軍;生物啟發(fā)式算法及其改進研究[D];中國科學(xué)技術(shù)大學(xué);2010年

，

本文編號：2564138