非球面技術在浸沒式光刻照明系統(tǒng)中的應用
[Abstract]:The NA1.35 immersion lithography lighting system is the core equipment of very large scale integrated circuit (VLSI). In order to realize the energy of the beam from the Ar F laser to reach the mask surface after transmission through a series of modules, it meets the requirement of the lithography exposure system. Aspheric lenses need to be introduced into the system to reduce the number of lenses and improve the energy efficiency. In order to solve the problem of machining difficulty and insufficient control precision of aspheric lens, an optimized control method is designed to ensure aspherical machining and testing. In the design of optical system, the shape of aspheric surface is optimized, the degree of aspheric surface is guaranteed, the rate of change of aspheric surface is within the range of machining and testing, and the generation of aspheric inflection point is controlled. The largest number of lenses in the lighting system is the coupling lens group, through the optimization of aspherical surface, the number of lenses is reduced from 12 to 9, and the energy utilization of the system is increased by nearly 25%. In addition, the image quality NA consistency of the system is improved, such as square telecentric degree, dispersion speckle diameter and distortion, which meet the energy requirements of the exposure optical system for the mask surface. Therefore, the aspheric control technique has good machinability and detectability.
【作者單位】: 長春理工大學;長春理工大學光電信息學院;
【基金】:國家自然科學基金(91338116,11474037)
【分類號】:TH74;TN47
【相似文獻】
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,本文編號:2452209
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