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非球面技術(shù)在浸沒式光刻照明系統(tǒng)中的應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間:2019-04-02 03:53
【摘要】:NA1.35浸沒式光刻照明系統(tǒng)是超大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,為了實(shí)現(xiàn)從Ar F激光器發(fā)出的光束經(jīng)過一系列模塊傳輸后到達(dá)掩模面的能量滿足光刻曝光系統(tǒng)的要求,需要在系統(tǒng)中引入非球面透鏡,以減少鏡片數(shù)量,提高能量利用率。為解決現(xiàn)在非球面透鏡具有的加工難度和控制精度不足的缺陷,設(shè)計(jì)出一種優(yōu)化控制保證非球面加工和檢測的方法。在光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中優(yōu)化非球面的形狀,保證非球面度,滿足非球面變化率在可加工和檢測的范圍內(nèi),并控制非球面拐點(diǎn)的產(chǎn)生。照明系統(tǒng)中鏡片數(shù)量最多的模塊是耦合鏡組,通過非球面的優(yōu)化,鏡片數(shù)量從12片減少到9片,系統(tǒng)能量利用率提高近25%。此外,提高了系統(tǒng)像質(zhì)NA一致性,像方遠(yuǎn)心度,彌散斑直徑和畸變,滿足了曝光光學(xué)系統(tǒng)對掩模面的能量要求,故該非球面控制技術(shù)具有良好的可加工性和可檢測性。
[Abstract]:The NA1.35 immersion lithography lighting system is the core equipment of very large scale integrated circuit (VLSI). In order to realize the energy of the beam from the Ar F laser to reach the mask surface after transmission through a series of modules, it meets the requirement of the lithography exposure system. Aspheric lenses need to be introduced into the system to reduce the number of lenses and improve the energy efficiency. In order to solve the problem of machining difficulty and insufficient control precision of aspheric lens, an optimized control method is designed to ensure aspherical machining and testing. In the design of optical system, the shape of aspheric surface is optimized, the degree of aspheric surface is guaranteed, the rate of change of aspheric surface is within the range of machining and testing, and the generation of aspheric inflection point is controlled. The largest number of lenses in the lighting system is the coupling lens group, through the optimization of aspherical surface, the number of lenses is reduced from 12 to 9, and the energy utilization of the system is increased by nearly 25%. In addition, the image quality NA consistency of the system is improved, such as square telecentric degree, dispersion speckle diameter and distortion, which meet the energy requirements of the exposure optical system for the mask surface. Therefore, the aspheric control technique has good machinability and detectability.
【作者單位】: 長春理工大學(xué);長春理工大學(xué)光電信息學(xué)院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金(91338116,11474037)
【分類號(hào)】:TH74;TN47

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本文編號(hào):2452209

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