發(fā)布時(shí)間：2018-11-08 14:00

【摘要】：文章分析了目前工業(yè)用的水基清洗和有機(jī)溶劑清洗技術(shù),因?qū)Υ髿獬粞鯇拥钠茐囊约皩?duì)環(huán)境的污染問題,已不太適于電子工業(yè)發(fā)展的需要。目前最有希望的替代工藝就是超臨界CO_2清洗技術(shù),詳細(xì)介紹了超臨界CO_2清洗新技術(shù)的原理,使用條件與方法,新技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)及應(yīng)用范圍,強(qiáng)調(diào)該技術(shù)值得全國推廣應(yīng)用。
[Abstract]:In this paper, the water-based cleaning and organic solvent cleaning techniques used in industry are analyzed. Due to the destruction of the atmospheric ozone layer and the pollution to the environment, it is not suitable for the development of electronic industry. At present, the most promising alternative technology is supercritical CO_2 cleaning technology. The principle, application conditions and methods, advantages and disadvantages and application scope of the new supercritical CO_2 cleaning technology are introduced in detail. It is emphasized that this technique is worth popularizing and applying all over the country.
【作者單位】： 南京大學(xué);廣東哈福研究所;
【分類號(hào)】：TN41

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本文編號(hào)：2318700