發(fā)布時間：2018-06-24 02:04

  本文選題：靜電場 + 壓印��； 參考：《光學精密工程》2017年03期

【摘要】：介紹了一種靜電場輔助的新型微壓印光刻技術(shù),并對其工藝過程進行了深入的理論研究。首先,采用數(shù)值仿真軟件COMSOL~(TM) Multiphysics,建立了靜電場輔助的壓印光刻瞬態(tài)仿真分析模型,討論了不同時域微結(jié)構(gòu)的演化過程。然后,詳細分析了微結(jié)構(gòu)的成型與仿真實驗參數(shù)的定性關(guān)系,發(fā)現(xiàn):適當?shù)販p小極板間距、模板凸起結(jié)構(gòu)周期,同時增加模板的凸起高度、初始聚合物薄膜厚度和電壓有助于微納結(jié)構(gòu)的成型。最后,通過仿真實驗參數(shù)優(yōu)化,得到了帶有31μm中空結(jié)構(gòu)的球冠微結(jié)構(gòu)。與傳統(tǒng)壓印方法相比,靜電場輔助的微壓印技術(shù)工藝過程簡單且成本較低,能夠廣泛應(yīng)用于微電子機械系統(tǒng)、光子學、遺傳學和組織系統(tǒng)等。
[Abstract]:A new type of microlithography assisted by electrostatic field is introduced, and its technological process is studied theoretically. Firstly, the transient simulation model of imprint lithography assisted by electrostatic field is established by using the numerical simulation software COMSOL ~ (TM) Multiphysics.The evolution process of different time-domain microstructures is discussed. Then, the qualitative relationship between the shaping of the microstructure and the parameters of the simulation experiment is analyzed in detail. It is found that the distance between the plates is reduced appropriately, the period of the bulge structure of the template is decreased, and the height of the bulge of the template is increased at the same time. The thickness and voltage of the initial polymer film are helpful to the formation of micro-nano structure. Finally, the spherical crown microstructures with 31 渭 m hollow structure are obtained by optimizing the simulation parameters. Compared with traditional imprint technology, electrostatic field assisted microimprint process is simple and low cost, and can be widely used in microelectromechanical systems, photonics, genetics and tissue systems.
【作者單位】： 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所;中國科學院大學;中國人民解放軍63861部隊;中國科學院西安光學精密機械研究所;
【基金】：國家自然科學基金資助項目(No.61475156,No.61361166004,No.51275504) 吉林省基金資助項目(No.20140519002JH,No.20140519007JH) 深圳市科創(chuàng)委基金資助項目(No.KQCX2015032416183981)
【分類號】：TN305.7

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