本文選題：硅 + 納秒激光脈沖��； 參考：《激光雜志》2016年06期

【摘要】：納秒激光脈沖燒蝕硅產(chǎn)生的微納結(jié)構(gòu)具有廣泛的應(yīng)用前景。激光與硅相互作用過程涉及復(fù)雜動力學(xué)過程,本文利用1064nm、10ns激光脈沖燒蝕硅產(chǎn)生空洞結(jié)構(gòu),同時利用相爆炸理論對燒蝕形貌進行分析。研究結(jié)果表明:相爆炸使得硅材料發(fā)生劇烈的去除,在燒蝕中心產(chǎn)生深坑,而燒蝕產(chǎn)物在相爆炸的巨大壓力作用下,高速飛濺,在坑外側(cè)沉積。
[Abstract]:Nanosecond laser pulse ablation of silicon microstructures have a wide range of applications. The interaction between laser and silicon involves complex kinetic processes. In this paper, the cavity structure is generated by laser pulse ablation of silicon at 1064nm, and the morphology of ablation is analyzed by using phase explosion theory. The results show that the silicon material is removed violently by phase explosion, and deep pits are produced in the ablation center, and the ablation products are deposited on the outside of the pit at high speed under the huge pressure of the phase explosion.
【作者單位】： 河南工程學(xué)院電氣信息工程學(xué)院;四川大學(xué)電子信息學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金青年基金(No.61403123) 高等學(xué)校重點科研項目(No.15A510020) 博士青年基金(No.2012012)
【分類號】：TN249;TN304.12

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本文編號：1971384