本文選題：時域有限差分法 + 高斯面形��； 參考：《真空科學與技術(shù)學報》2017年05期

【摘要】：基于嚴格耦合波分析理論,設(shè)計中波紅外波段3~5μm的仿生蛾眼表面高斯面形周期陣列抗反射微納結(jié)構(gòu),用三維有限時域差分法進行仿真模擬優(yōu)化,分析了結(jié)構(gòu)陣列周期、占空比、刻蝕深度對反射率和透過率的影響,比較高斯面形、拋物面形、圓錐形結(jié)構(gòu)模型抗反射效果,給出了最優(yōu)化參數(shù)組合。分析了加工過程中周期、占空比和刻蝕深度以及外部形狀輪廓偏差對蛾眼微納結(jié)構(gòu)的影響,給出了在要求抗反射效果下允許的結(jié)構(gòu)參數(shù)公差尺寸范圍和建議加工尺寸,結(jié)果得到的抗反射結(jié)構(gòu)反射率低于3%~5%,透過率高于90%。
[Abstract]:Based on the theory of strictly coupled wave analysis, the Gao Si surface periodic array anti-reflective micro-nano structure of midwave infrared wave band 3 ~ 5 渭 m is designed. The simulation optimization is carried out by using three-dimensional finite-difference time-domain method, and the period and duty cycle of the structure array are analyzed. The effect of etching depth on reflectivity and transmittance is compared with Gao Si's surface shape, paraboloid shape and conical structure model, and the optimum parameter combination is given. The effects of the cycle, duty cycle, etching depth and external shape profile deviation on the micronano structure of the moth eye are analyzed. The allowable tolerances of structural parameters and the recommended machining dimensions are given under the requirement of anti-reflection effect. The results show that the reflectivity of the antireflection structure is less than 3 and the transmittance is higher than 90.
【作者單位】： 長春理工大學光電工程學院;華中光電技術(shù)研究所武漢光電國家實驗室;
【基金】：吉林省自然科學基金項目(編號20150101038JC)
【分類號】：TN305.7

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1 SAI-WAI FU,AMR M.MOHSEN,賴宗聲;α粒子感生電荷收集測量和一種新型P阱保護勢壘在VLSI存儲器中應(yīng)用的有效性[J];微電子學;1986年02期

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本文編號：1819330