本文選題：量值傳遞 + 刻蝕工藝�。� 參考：《微納電子技術(shù)》2017年12期

【摘要】：介紹了納米幾何量量值傳遞中納米標(biāo)準(zhǔn)樣版的計(jì)量與溯源特性。分析了微納米測(cè)量?jī)x器在納米標(biāo)準(zhǔn)樣版幾何參量校準(zhǔn)中對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣版循跡結(jié)構(gòu)的具體需求。設(shè)計(jì)了標(biāo)準(zhǔn)值為60 nm,具有可循跡結(jié)構(gòu)的納米臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣版。為了實(shí)現(xiàn)高精度、溯源性表征,基于計(jì)量型納米測(cè)量?jī)x(NMM),結(jié)合多種定位測(cè)量方法,對(duì)加工的納米臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣版進(jìn)行測(cè)量與評(píng)價(jià),并對(duì)其開展區(qū)域均勻性和長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,制備的臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣版高度值與設(shè)計(jì)值基本一致,設(shè)計(jì)的循跡結(jié)構(gòu)能有效地協(xié)助電荷耦合器件(CCD)實(shí)現(xiàn)快速循跡與定位,且采用濺射鍍膜工藝優(yōu)化了標(biāo)準(zhǔn)樣版表面結(jié)構(gòu)的特性,使多種定位測(cè)量方法的測(cè)量重復(fù)性標(biāo)準(zhǔn)偏差均小于1 nm。
[Abstract]:The metrology and traceability of nanoscale standard plate in the transmission of nanometer geometric quantities are introduced. In this paper, the requirements of the micrometer for the calibration of the geometric parameters of the nanoscale template are analyzed. A standard plate with a traceable structure of nanoscale steps was designed with a standard value of 60 nm. In order to achieve high accuracy and traceability characterization, based on the metrological nano-meter NMMM, combined with a variety of positioning and measurement methods, the standard plate of nanoscale steps was measured and evaluated, and the regional homogeneity and long-time stability experiments were carried out. The experimental results show that the height of the step standard plate is basically the same as the designed value, and the designed track structure can effectively assist the charge coupled device (CCD) to realize fast tracking and positioning. The characteristics of the surface structure of the standard sample plate were optimized by sputtering coating process, and the repeatability standard deviation of various measurement methods was less than 1 nm.
【作者單位】： 中國(guó)計(jì)量大學(xué);上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院;中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十三研究所;
【基金】：國(guó)家重大儀器專項(xiàng)資助項(xiàng)目(2014YQ090709)
【分類號(hào)】：TB383.1;TN386.5

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本文編號(hào)：1809303