可循跡納米臺階標準樣版的制備與表征
本文選題:量值傳遞 + 刻蝕工藝; 參考:《微納電子技術》2017年12期
【摘要】:介紹了納米幾何量量值傳遞中納米標準樣版的計量與溯源特性。分析了微納米測量儀器在納米標準樣版幾何參量校準中對標準樣版循跡結構的具體需求。設計了標準值為60 nm,具有可循跡結構的納米臺階標準樣版。為了實現(xiàn)高精度、溯源性表征,基于計量型納米測量儀(NMM),結合多種定位測量方法,對加工的納米臺階標準樣版進行測量與評價,并對其開展區(qū)域均勻性和長時間穩(wěn)定性實驗。實驗結果表明,制備的臺階標準樣版高度值與設計值基本一致,設計的循跡結構能有效地協(xié)助電荷耦合器件(CCD)實現(xiàn)快速循跡與定位,且采用濺射鍍膜工藝優(yōu)化了標準樣版表面結構的特性,使多種定位測量方法的測量重復性標準偏差均小于1 nm。
[Abstract]:The metrology and traceability of nanoscale standard plate in the transmission of nanometer geometric quantities are introduced. In this paper, the requirements of the micrometer for the calibration of the geometric parameters of the nanoscale template are analyzed. A standard plate with a traceable structure of nanoscale steps was designed with a standard value of 60 nm. In order to achieve high accuracy and traceability characterization, based on the metrological nano-meter NMMM, combined with a variety of positioning and measurement methods, the standard plate of nanoscale steps was measured and evaluated, and the regional homogeneity and long-time stability experiments were carried out. The experimental results show that the height of the step standard plate is basically the same as the designed value, and the designed track structure can effectively assist the charge coupled device (CCD) to realize fast tracking and positioning. The characteristics of the surface structure of the standard sample plate were optimized by sputtering coating process, and the repeatability standard deviation of various measurement methods was less than 1 nm.
【作者單位】: 中國計量大學;上海市計量測試技術研究院;中國電子科技集團公司第十三研究所;
【基金】:國家重大儀器專項資助項目(2014YQ090709)
【分類號】:TB383.1;TN386.5
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,本文編號:1809303
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