本文選題：干涉光刻　切入點(diǎn)：周期結(jié)構(gòu)　出處：《發(fā)光學(xué)報(bào)》2017年04期

【摘要】：為了制備大面積周期性微納米結(jié)構(gòu)以提高LED的發(fā)光效率,建立了勞厄德(Lloyd)干涉光刻系統(tǒng)。簡單分析了該干涉光刻系統(tǒng)的工作原理,并介紹了利用干涉曝光工藝制備一維光柵、二維點(diǎn)陣、孔陣列等納米結(jié)構(gòu)圖形的具體實(shí)驗(yàn)過程。最后對納米圖形進(jìn)行結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移,制備出了金屬納米結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:利用勞厄德干涉光刻系統(tǒng),可以在20 mm×20 mm大小的ITO襯底上穩(wěn)定制備出周期為450 nm的均勻光柵或二維點(diǎn)陣列圖形結(jié)構(gòu),它們的占空比也是可以調(diào)節(jié)變化的。
[Abstract]:In order to fabricate large area periodic microstructures to improve the luminescence efficiency of LED, a Lloyd Lloyd interference lithography system is established. The working principle of the interference lithography system is briefly analyzed, and the fabrication of one dimensional grating by using interference exposure technology is introduced. Finally, the metal nanostructures were prepared by the structural transfer of the nanostructures. The experimental results show that the Lauder interference lithography system is used to fabricate the metal nanostructures. A uniform grating with a period of 450nm or a two-dimensional dot array can be stably fabricated on a 20mm 脳 20mm ITO substrate, and their duty cycle can also be adjusted.
【作者單位】： 天津工業(yè)大學(xué)電子與信息工程學(xué)院;天津市光電檢測技術(shù)與系統(tǒng)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所;
【基金】：天津市自然科學(xué)基金(14JCQNJC01000) 國家自然科學(xué)基金(11404239,61575144,61504093) 集成光電子學(xué)國家重點(diǎn)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室開放課題(IOSKL2014KF15)資助項(xiàng)目~~
【分類號】：TN305.7;TN312.8

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本文編號：1689963