發(fā)布時(shí)間：2018-03-24 23:30

  本文選題：電潤(rùn)濕　切入點(diǎn)：光刻膠　出處：《華南師范大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)》2017年01期

【摘要】：電潤(rùn)濕器件的傳統(tǒng)工藝中利用SU-8光刻膠材料制備像素墻,從而得到最小的顯示單元——像素.文中通過(guò)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)另一種環(huán)氧樹脂光刻膠(KMPR膠)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的SU-8光刻膠用來(lái)制備電潤(rùn)濕器件的像素墻.KMPR膠既可以采用有機(jī)溶劑進(jìn)行顯影,也可以采用堿性顯影液,更利于環(huán)保.通過(guò)對(duì)比有機(jī)溶劑(PGMEA)和堿性顯影液(KOH溶液、四甲基氫氧化銨TMAH溶液)對(duì)KMPR光刻膠的顯影效果,得到最佳水溶液顯影液——?dú)溲趸?KOH)顯影液及其顯影的較佳濃度范圍,研究了溫度對(duì)KMPR光刻膠顯影的影響,進(jìn)而對(duì)顯影機(jī)理進(jìn)行了探討.
[Abstract]:SU-8 photoresist is used to fabricate pixel wall in the traditional process of electrical wetting device. In this paper, we find that another kind of epoxy resin photoresist can replace the traditional SU-8 photoresist to prepare the pixel wall of electrical wetting device. It is also possible to use alkaline developer, which is more beneficial to environmental protection. By comparing the development effect of KMPR photoresist with organic solvent (PGMEA), alkaline developer solution (Koh) and tetramethylammonium hydroxide (TMAH), The optimum solution of aqueous solution, potassium hydroxide (Koh), and its optimum concentration range were obtained. The effect of temperature on the development of KMPR photoresist was studied, and the development mechanism was discussed.
【作者單位】： 華南師范大學(xué)華南先進(jìn)光電子研究院彩色動(dòng)態(tài)電子紙顯示技術(shù)研究所;深圳市國(guó)華光電科技有限公司;深圳市國(guó)華光電研究院;
【基金】：科技部國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目(2016YFB0401502) 國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(U1601651) 教育部“長(zhǎng)江學(xué)者和創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)發(fā)展計(jì)劃”項(xiàng)目(IRT13064) 廣東省引進(jìn)創(chuàng)新科研團(tuán)隊(duì)計(jì)劃項(xiàng)目(2011D039) 廣東省重大基礎(chǔ)培育項(xiàng)目(2014A030308013) 廣東省重大科技專項(xiàng)項(xiàng)目(2014B090914004,2016B090906004) 華南師范大學(xué)研究生科研創(chuàng)新基金資助項(xiàng)目(2013KYJJ043) 國(guó)家高等學(xué)校學(xué)科創(chuàng)新引智計(jì)劃111引智基地-光信息引智基地
【分類號(hào)】：TN305.7

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本文編號(hào)：1660560