本文關(guān)鍵詞： 溫度場 均勻性 有限元 仿真　出處：《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》2016年06期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：為了提高真空系統(tǒng)內(nèi)一種加熱器的溫度場分布均勻性,利用有限元分析方法,借助ANSYS Workbench仿真溫度場,通過對單圈鎢絲結(jié)構(gòu)外加圓倒角釜結(jié)構(gòu)上的改進(jìn),確定了獲取均勻的溫度場的方法。在電阻絲加熱功率為45 W,對直徑50.8 mm的藍(lán)寶石晶元加熱溫度均達(dá)到200℃的情況下,分別對兩種加熱器進(jìn)行了仿真分析。結(jié)果表明:單圈鎢絲結(jié)構(gòu)外加圓倒角釜的加熱器對晶元加熱的溫度場均勻性較差,溫度差異為41.13℃。多圈鎢絲螺旋結(jié)構(gòu)外加拋物面釜對晶元加熱的溫度場均勻性較好,溫度差異僅為2.30℃,可作為真空系統(tǒng)內(nèi)一種理想的高均勻性加熱器結(jié)構(gòu)。對GaN陰極均勻性的檢測表明:通過改進(jìn)加熱器結(jié)構(gòu),使得制作的GaN光陰極發(fā)射不均勻性由原來的28%改善為小于10%。研究成果為真空系統(tǒng)內(nèi)部加熱器的優(yōu)化改進(jìn)提供技術(shù)支撐。
[Abstract]:In order to improve the uniformity of the temperature field distribution of a heater in a vacuum system , the finite element analysis method is used to simulate the temperature field of a single - ring tungsten wire structure with a circular chamfering kettle . The temperature difference is 41.13 鈩，

本文編號：1487955