本文關(guān)鍵詞：LED藍(lán)寶石襯底拋光表面原子臺(tái)階形貌及其周期性研究　出處：《光學(xué)精密工程》2017年01期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：LED藍(lán)寶石襯底的表面質(zhì)量會(huì)極大影響到后續(xù)外延質(zhì)量,進(jìn)而影響到LED器件性能。藍(lán)寶石研磨片經(jīng)Al2O3磨粒粗拋液、SiO2磨粒精拋液下進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光(CMP),最終表面經(jīng)原子力顯微鏡(AFM)所測(cè)表面粗糙度達(dá)到0.101nm,獲得亞納米級(jí)粗糙度超光滑表面,并呈現(xiàn)出原子臺(tái)階形貌。同時(shí),通過(guò)使用Zygo表面形貌儀、AFM觀察藍(lán)寶石從研磨片經(jīng)Al2O3粗拋液、SiO2精拋液拋光后的表面變化,闡述藍(lán)寶石表面原子臺(tái)階形貌的形成原因,提出藍(lán)寶石原子級(jí)超光滑表面形成的CMP去除機(jī)理。通過(guò)控制藍(lán)寶石拋光中的工藝條件,獲得a-a型、a-b型兩種不同周期規(guī)律性的臺(tái)階形貌表面,并探討不同周期規(guī)律性臺(tái)階形貌的形成機(jī)理。
[Abstract]:The surface quality of LED sapphire substrate will greatly affect the subsequent epitaxial quality, thereby affecting the performance of LED devices. The sapphire polishing film by Al2O3 abrasive rough polishing liquid, chemical mechanical polishing of SiO2 abrasive polishing liquid (CMP), the final surface by atomic force microscope (AFM) measured by the surface roughness of 0.101nm. To obtain the nanoscale roughness of ultra smooth surface, and presents the atomic step morphology. At the same time, through the use of Zygo surface morphology, AFM observed from sapphire polishing film by Al2O3 rough polishing liquid, SiO2 polishing liquid surface changes after polishing, analyze the causes of atoms on the surface morphology of the sapphire sapphire step, ultra smooth atomic level formed on the surface of the CMP removal mechanism. By controlling the process conditions in the polishing of sapphire, a- a, B a- step surface morphology of two kinds of different cycle regularity, and discusses the different cycle regularity of step shaped morphology Mechanism.

【作者單位】： 清華大學(xué)摩擦學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;深圳清華大學(xué)研究院深圳市微納制造重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;廣東省光機(jī)電一體化重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;深圳市特種功能材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室深圳大學(xué);
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金重大研究計(jì)劃重點(diǎn)資助項(xiàng)目(No.91223202);國(guó)家自然科學(xué)基金創(chuàng)新研究群體科學(xué)基金資助項(xiàng)目(No.51321092) 國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(973計(jì)劃)資助項(xiàng)目(No.2011CB013102) 深圳大學(xué)深圳市特種功能材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開放基金資助項(xiàng)目(No.T201404)
【分類號(hào)】：TN312.8;TQ164
【正文快照】： (1.State Key Laboratory of Tribology,Tsinghua University,Beijing100084,China;2.Shenzhen Key Laboratory of Micro/Nano Manufacturing,Research Institute of Tsinghua University in Shenzhen,Shenzhen518057,China;3.Guangdong Provincial Key Laboratory of Optomec

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1 潘秀紅;金蔚青;劉巖;艾飛;張英;;BaB_2O_4單晶快速生長(zhǎng)時(shí)的界面形態(tài)與表面臺(tái)階形貌[J];中國(guó)科學(xué)(G輯:物理學(xué) 力學(xué) 天文學(xué));2007年03期

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本文編號(hào)：1424441