本文關(guān)鍵詞：增強型局域表面等離子體共振納米直寫光刻　出處：《光電工程》2016年01期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：本文將Bowtie孔徑結(jié)構(gòu)與金屬-介質(zhì)-金屬結(jié)構(gòu)相結(jié)合,提出了一種新的局域表面等離子體共振納米直寫光刻結(jié)構(gòu),得益于金屬-介質(zhì)-金屬結(jié)構(gòu)中頂層透射Ag對透射光的放大增強以及底層反射Ag對透射光的反射補償作用,聚焦光斑的尺寸得到壓縮的同時深度得到了顯著提高,理論仿真中當(dāng)焦斑的FWHM為28 nm時,焦斑深度可以達到20 nm以上,這相對于傳統(tǒng)納米直寫光刻結(jié)構(gòu),將焦斑的深度提升了4倍。隨后,通過相關(guān)驗證實驗在光刻膠中獲得了FWHM為47 nm,曝光深度為25 nm的焦斑圖形,進一步證實了該結(jié)構(gòu)在壓縮焦斑尺寸以及提升焦斑深度上的顯著優(yōu)勢。
[Abstract]:......
【作者單位】： 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所微細加工光學(xué)技術(shù)國家重點實驗室;
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項目(61138002)
【分類號】：O53;TN305.7
【正文快照】： 0引言近年來,一系列光學(xué)奇異現(xiàn)象的研究證實,表面等離子體(Surface Plasmon,SP)本身具備了短波長傳輸以及倏逝波耦合放大等獨特的光學(xué)特性[1]。通過電磁波耦合表面等離子體集群振蕩,使倏逝波的位相、振幅和傳輸行為操控成為了可能,為超衍射光學(xué)成像、光刻和傳輸?shù)难芯堪l(fā)展帶來

【共引文獻】

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3 徐健寧;智能金屬結(jié)構(gòu)熔焊成型技術(shù)研究[D];南昌大學(xué);2009年

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2 王華林;金屬結(jié)構(gòu)疲勞破壞的計算機仿真分析[D];武漢科技大學(xué);2005年

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5 姚文方;采光頂金屬結(jié)構(gòu)計算機輔助分析系統(tǒng)的研究與應(yīng)用[D];重慶大學(xué);2008年

6 蘇玉闊;JIER金屬結(jié)構(gòu)公司ERP系統(tǒng)的研究與應(yīng)用[D];山東大學(xué);2010年

7 羅勤生;集裝箱裝卸橋金屬結(jié)構(gòu)疲勞裂紋控制與管理[D];上海海事大學(xué);2006年

8 曾宇丹;基于網(wǎng)絡(luò)的建筑金屬結(jié)構(gòu)門窗產(chǎn)品計算機輔助設(shè)計系統(tǒng)[D];重慶大學(xué);2002年

9 唐婭玲;基于無線傳感技術(shù)和GPRS的金屬結(jié)構(gòu)應(yīng)力遠程監(jiān)測系統(tǒng)[D];武漢理工大學(xué);2011年

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本文編號：1353930