本文關(guān)鍵詞：納米聚集氧化硅固定磨料拋光布的拋光特性

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【摘要】：針對傳統(tǒng)磨料的固定磨料拋光布容易在加工表面產(chǎn)生劃傷,以及材料去除效率低等問題,提出了采用微米級(jí)球形聚集氧化硅粒子的固定磨料拋光布。將納米聚集氧化硅粒子添加到拋光布中,用pH為10.5的堿性水溶液替代傳統(tǒng)的拋光液,進(jìn)行了Si基板的的拋光加工試驗(yàn)。與傳統(tǒng)采用不規(guī)則形狀天然氧化硅及球形熔融氧化硅固定磨料拋光布進(jìn)行了比較,得到了納米聚集氧化硅的固定磨料拋光布的加工特性,并討論了它的基本參數(shù)對加工特性的影響。實(shí)驗(yàn)得到了與現(xiàn)行納米拋光液(重量百分比為3%,pH=10.5)相同的材料去除率,加工表面粗糙度降低了約30%。與傳統(tǒng)不規(guī)則形狀天然氧化硅磨料拋光布相比,納米聚集氧化硅拋光布的磨料為球形,彈性系數(shù)僅為其1.4%~60%,因此不易劃傷拋光表面。與熔融氧化硅拋光布相比,納米聚集氧化硅拋光布在pH為10.5的堿性水溶液中磨料表面可吸附的[-OH]離子提高了25倍,使得液相化學(xué)去除作用增大至去除率的70%以上。另外,隨著納米聚集氧化硅的微米粒徑的增大,固定磨料拋光布的納米級(jí)加工表面粗糙度幾乎不變,但對前加工面表面粗糙度的去除能力明顯增大,表現(xiàn)出微米粒徑效應(yīng)。
【作者單位】： 天津職業(yè)大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;
【基金】：天津市自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(No.13JCYBJC18100) 天津職業(yè)大學(xué)培育資助項(xiàng)目(No.20101101)
【分類號(hào)】：TN305
【正文快照】： 1引言固定磨料拋光布的硬度通常高于傳統(tǒng)的不含磨料拋光布,在半導(dǎo)體的CMP工程中能改善氧化凹陷;此外由于其基材具有黏彈性,比其它固定磨料拋光工具(如砂輪)更容易實(shí)現(xiàn)無損傷鏡面拋光加工[1-4]。3M公司的Gagliardi[5]為了使磨屑和脫落的磨料順利排出,將固定磨料制成微米級(jí)的凸，

本文編號(hào)：1287805