本文關(guān)鍵詞：鎳鉑合金濺射靶材在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用及發(fā)展趨勢

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【摘要】：鎳鉑合金靶材廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)。通過磁控濺射,鎳鉑合金靶材在硅器件表面沉積并反應(yīng)生成鎳鉑硅化物薄膜,實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體接觸及互連。對鎳鉑硅化物在肖特基二極管制造和半導(dǎo)體集成電路中的應(yīng)用進(jìn)行了分析,綜述了鎳鉑合金結(jié)構(gòu)與性質(zhì)研究成果及制備方法,提出了鎳鉑合金靶材高純化、提高磁透率和控制晶粒度的發(fā)展趨勢。
【作者單位】： 昆明貴金屬研究所;
【基金】：云南省對外科技合作計(jì)劃項(xiàng)目(2014IA037) 云南省戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展專項(xiàng) 云南省應(yīng)用基礎(chǔ)研究項(xiàng)目(2016F3086)
【分類號】：TN305.92
【正文快照】： 金屬硅化物具有優(yōu)異的高溫抗氧化性以及良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性,已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中作為優(yōu)良的接觸材料[1-2]。隨著金屬硅化物的不斷發(fā)展,主導(dǎo)的硅化物已從鈦、鈷硅化物逐步發(fā)展到低電阻、低耗硅量以及低形成溫度的鎳硅化物。研究表明,高溫下Ni Si相易轉(zhuǎn)化成Ni Si2穩(wěn)定相,導(dǎo)，

本文編號：1262291