無結(jié)場效應(yīng)管——新興的后CMOS器件研究進展
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【摘要】:迄今為止,現(xiàn)有的晶體管都是基于PN結(jié)或肖特基勢壘結(jié)而構(gòu)建的。在未來的幾年里,CMOS制造技術(shù)的進步將導(dǎo)致器件的溝道長度小于10nm。在這么短的距離內(nèi),為使器件能夠工作,將不得不采用非常高的摻雜濃度梯度。進入納米領(lǐng)域,常規(guī)CMOS器件所面臨的許多問題都與PN結(jié)相關(guān),傳統(tǒng)的按比例縮小將不再足以繼續(xù)通過制造更小的晶體管而獲得器件性能的提高。半導(dǎo)體工業(yè)界正在努力從器件幾何形狀,結(jié)構(gòu)以及材料方面尋求新的解決方案。文中研究了無結(jié)場效應(yīng)器件制備工藝技術(shù)及其進展,這些器件包括半導(dǎo)體無結(jié)場效應(yīng)晶體管、量子阱場效應(yīng)晶體管、碳納米管場效應(yīng)晶體管、石墨烯場效應(yīng)晶體管、硅烯場效應(yīng)晶體管、二維半導(dǎo)體材料溝道場效應(yīng)晶體管和真空溝道場效應(yīng)管等。這些器件有可能成為適用于10nm及以下技術(shù)節(jié)點乃至按比例縮小的終極器件。
【作者單位】: 上海新f半導(dǎo)體科技有限公司;
【基金】:國家科技重大專項資助項目(2015ZX02401)
【分類號】:TN386
【正文快照】: ***引言1949年肖克萊(W.B.Shockley)提出少子(少數(shù)載流子)在半導(dǎo)體中的注入和遷移的PN結(jié)理論以及基于PN結(jié)的雙極型晶體管(BJT)器件結(jié)構(gòu)[1]。1960年,貝爾實驗室的D.Kahng和M.Atalla發(fā)明并首次制作成功金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)。MOSFET的發(fā)明也是基于PN結(jié)理論[2-
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