本文關(guān)鍵詞：激光直寫多層光刻樣品定位準(zhǔn)確度的研究

  更多相關(guān)文章： 激光直寫 多層光刻 定位 準(zhǔn)確度

【摘要】：利用磁控濺射法制備了鐵鈷合金薄膜,并采用電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀、多晶X射線衍射儀和場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡對(duì)沉積薄膜的成分、晶體結(jié)構(gòu)和微觀形貌進(jìn)行了測(cè)試和分析。針對(duì)DWL66FS型激光直寫儀自帶定位工具定位銷使用時(shí)的缺點(diǎn),設(shè)計(jì)了"L"形樣品定位工具L夾尺。利用高倍光學(xué)顯微鏡對(duì)比分析研究了兩種定位技術(shù)在激光直寫多層光刻鐵鈷合金薄膜時(shí)定位的準(zhǔn)確度。結(jié)果發(fā)現(xiàn),使用L夾尺對(duì)多層光刻樣品定位的準(zhǔn)確度明顯優(yōu)于儀器自帶的定位銷。
【作者單位】： 蘭州大學(xué)磁學(xué)與磁性材料教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院;
【基金】：蘭州大學(xué)磁學(xué)與磁性材料教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開(kāi)放課題(MMM2014014) 高等學(xué)校儀器設(shè)備和優(yōu)質(zhì)資源共享系統(tǒng)項(xiàng)目管理中心項(xiàng)目(CERS-1-89)經(jīng)費(fèi)支持
【分類號(hào)】：TN305.7
【正文快照】： 0引言光刻技術(shù)作為半導(dǎo)體行業(yè)的“核心工藝”,一直是目前科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用的熱點(diǎn)領(lǐng)域[1-3]。激光直寫技術(shù)作為一種重要的微光刻技術(shù),具有精度高、無(wú)需掩膜版一次成型、光刻效率高以及通過(guò)多層光刻可以直接制作二元光學(xué)元件等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于光刻設(shè)備中[4-7]。德國(guó)海德堡公司

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

1 趙軍;李煜;鄭毅;;碳包裹納米鐵鈷合金粒子的制備及其磁性[A];2009中國(guó)功能材料科技與產(chǎn)業(yè)高層論壇論文集[C];2009年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條

1 王飛;鈦酸鋇納米纖維的壓電性能和樹(shù)葉狀鐵鈷合金納米顆粒的微波吸收性能[D];蘭州大學(xué);2011年

2 侯鑒璇;磁性材料的制備及其在固定化酶方面的應(yīng)用[D];北京化工大學(xué);2014年

，

本文編號(hào)：1240292