本文關鍵詞：熔石英損傷修復坑下游光場調制的數值模擬與實驗研究

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【摘要】：系統研究了熔石英激光損傷修復后的形貌特征,根據測量數據建立了典型的損傷修復坑三維模型,利用標量衍射理論并結合快速傅里葉變換算法研究了修復坑在351 nm激光輻照下游光場調制的分布規(guī)律.研究表明,修復坑引起的光場調制會使得下游不同距離位置處出現環(huán)形光場增強區(qū)和軸上位置光場增強點;環(huán)形光場增強區(qū)位置距離修復元件較近,其環(huán)形調制極大值主要受修復坑深度的影響,且隨修復坑深度的增大而逐漸增加;軸上位置光場增強點位置距離修復元件較遠,其軸上調制極大值主要受修復坑邊緣凸起高度的影響,且隨凸起高度的增大而快速增加;環(huán)形調制極大值或軸上調制極大值增大的同時,其分布位置與修復元件之間的距離均會逐漸減小.實驗驗證表明,利用三維修復坑模型得到的下游光場調制數值模擬結果與實驗測量結果具有較好的一致性.本研究結果對控制熔石英元件損傷修復形貌特征以抑制調制增強效應給出了具體的控制方向,對修復工藝的改進與完善提供了非常有意義的參考.
【作者單位】： 中國工程物理研究院激光聚變研究中心;中國工程物理研究院研究生部;
【基金】：國家自然科學基金青年科學基金(批準號:11404301)資助的課題~~
【分類號】：TN249
【正文快照】： 1引言三倍頻激光(351 nm)誘發(fā)熔石英元件表面損傷是限制高功率固體激光驅動裝置(如美國NIF裝置[1]、法國LMJ裝置[2],中國SG裝置[3])負載能力提升的重要因素之一[4-6].目前,國內外報道的熔石英光學元件損傷修復或抑制損傷增長的方法主要有HF酸刻蝕、等離子體刻蝕、微火焰加工和

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