半導(dǎo)體制造的工藝與材料發(fā)展趨勢(shì)
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【摘要】:應(yīng)用將持續(xù)驅(qū)動(dòng)芯片業(yè)的發(fā)展。摩爾定律將繼續(xù)演進(jìn),但形式正發(fā)生變化,從注重特征尺寸的縮小,正轉(zhuǎn)變到同時(shí)關(guān)注材料和結(jié)構(gòu)創(chuàng)新。預(yù)計(jì)中國半導(dǎo)體市場(chǎng)10年內(nèi)翻番,將帶來半導(dǎo)體制造的興盛。為了迎接10nm以下的挑戰(zhàn),應(yīng)用材料公司近期推出了三款新產(chǎn)品。
【作者單位】: 《電子產(chǎn)品世界》;
【分類號(hào)】:TN305
【正文快照】: 近日應(yīng)用材料公司舉辦的媒體說明會(huì)上,應(yīng)用材料中國公司首席技術(shù)官趙甘鳴博士介紹了從該公司角度看未來晶圓制造的工藝與材料的發(fā) 展趨勢(shì)。 晶圓設(shè)備支出的驅(qū)動(dòng)因素 如圖1,從2000年開始,驅(qū)動(dòng)晶圓設(shè)備支出(WFE)的驅(qū)動(dòng)元素可以分成三個(gè)階段,第一階段是2000年到2008至2009年,
【相似文獻(xiàn)】
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2 章從福;;2006年中國半導(dǎo)體制造設(shè)備市場(chǎng)將反彈30%[J];半導(dǎo)體信息;2006年01期
3 程文芳;;全球半導(dǎo)體行業(yè)回暖[J];半導(dǎo)體信息;2006年02期
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中國重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫 前3條
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3 丁力;徐華;王家^,
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