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n-on-p結(jié)構(gòu)深臺面延伸波長InGaAs探測器的ICPCVD鈍化工藝

發(fā)布時間:2017-11-16 17:02

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【摘要】:采用ICP刻蝕(inductively coupled plasma etching)工藝制備了深臺面n-on-p結(jié)構(gòu)的可響應(yīng)到2.4μm的延伸波長8×1元線列In Ga As探測器.器件表面采用ICP源激發(fā)的N2等離子體進(jìn)行處理,然后再使用ICPCVD(inductively coupled plasma chemical vapor deposition)沉積一層Si Nx薄膜的鈍化工藝.不同面積光敏元器件的電流—電壓特性分析顯示器件在常溫和低溫下側(cè)面電流均得到有效抑制,激活能分析顯示了器件優(yōu)異的暗電流特性,在-10 m V偏壓下,在200 K和300 K溫度下暗電流密度分別為94.2 n A/cm2和5.5×10-4A/cm2.
【作者單位】: 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所傳感技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所紅外成像材料與器件重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;中國科學(xué)院大學(xué);
【基金】:國家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃資助973項(xiàng)目(2012CB619200) 國家自然科學(xué)基金(61205105,61376052和61475179)~~
【分類號】:TN215
【正文快照】: PACS:01.55.+b引言1~3μm短波紅外波段包含C—O、C—H、C=O、O—H和N—H等化合鍵的吸收峰位,在天氣預(yù)報(bào)、機(jī)器視覺、環(huán)境監(jiān)控、資源調(diào)查等方面有著重要的作用[1-3].In Ga As探測器因其成熟的材料生長工藝和器件制備工藝以及可室溫工作的特點(diǎn),在短波紅外波段有著廣泛的研究和應(yīng)

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3 蔣濟(jì)昌;簡單實(shí)用的臺面復(fù)合鈍化工藝[J];半導(dǎo)體技術(shù);1989年04期

4 樓壽鈿;王春波;;防止銀層變色的鈍化工藝[J];電子技術(shù);1965年07期

5 王珂;;苯并三氮唑鈍化工藝在微波電真空器件中的應(yīng)用[J];電子管技術(shù);1985年01期

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2 王愛榮;郝海玲;;常用鍍鋅層鈍化工藝概述[A];天津市電鍍工程學(xué)會第十屆學(xué)術(shù)年會論文集[C];2006年

3 賴奐汶;黃清安;;FINIDIP 726高耐蝕的鋅鐵合金無Cr~(6+)黑色鈍化工藝[A];2004年全國電子電鍍學(xué)術(shù)研討會論文集[C];2004年

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3 施紹隊(duì);鍍鋅層硅酸鹽無鉻黑色鈍化工藝研究[D];昆明理工大學(xué);2012年

4 閆磊;電鍍鋅硅酸鹽鈍化工藝及機(jī)理研究[D];昆明理工大學(xué);2008年

5 陳高偉;鍍鋅層硅酸鹽無鉻藍(lán)白鈍化工藝研究[D];昆明理工大學(xué);2013年

6 惠建科;滾鍍鋼殼鈍化劑及鈍化工藝的開發(fā)[D];湘潭大學(xué);2012年

7 金海玲;電鍍鋅無鉻彩色鈍化工藝優(yōu)化[D];昆明理工大學(xué);2014年

8 馬奇;電廠蒸汽管道安裝前清洗鈍化工藝的研究[D];長沙理工大學(xué);2012年

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本文編號:1193019

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