本文關(guān)鍵詞：掩模位置誤差對光刻投影物鏡畸變的影響

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【摘要】：為使光刻投影物鏡滿足光刻工藝的要求,研究了掩模位置誤差對光刻投影物鏡引入的畸變。采用勒讓德多項(xiàng)式描述光刻投影物鏡的畸變,并應(yīng)用勒讓德多項(xiàng)式對光刻投影物鏡進(jìn)行了畸變分析及畸變補(bǔ)償。利用以上方法,對一臺工作波長為193 nm,數(shù)值孔徑(NA)為0.75的光刻投影物鏡進(jìn)行了畸變分析。結(jié)果顯示:當(dāng)掩模面3個(gè)方向的平移公差為1.0μm,繞3個(gè)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)公差為0.1 mrad時(shí),光刻投影物鏡標(biāo)定前后的畸變分別為2 113.2 nm和10.0 nm。利用勒讓德多項(xiàng)式進(jìn)行了畸變擬合,獲得了多項(xiàng)式中各項(xiàng)系數(shù),并給出掩模面位置誤差的畸變敏感度系數(shù);然后利用畸變敏感度系數(shù)對掩模面的隨機(jī)位置誤差進(jìn)行了公差分析和補(bǔ)償。結(jié)果表明,將光刻投影物鏡畸變控制在2 nm以內(nèi)時(shí),掩模面z方向的位置公差為±2.0μm,掩模面與x軸與y軸的傾斜公差分別為±22.3μmad和±55.3μmad。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明提出的方法適用于對掩模面引入的光刻投影物鏡畸變進(jìn)行有效分析及補(bǔ)償。
【作者單位】： 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國科學(xué)院大學(xué);
【基金】：國家重大科技專項(xiàng)資助課題
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 光刻投影物鏡的主要功能是將掩模圖形按一定比例近似完美地成像到硅片上,這就要求光刻投影物鏡必須滿足高像質(zhì)、低畸變的條件。隨著光刻工藝的發(fā)展,套刻工藝對光刻投影物鏡的像質(zhì)、畸變等要求也越來越高。其中,畸變是影響光刻投影物鏡成像的關(guān)鍵[1]。工作波長為193 nm的產(chǎn)品化

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