本文關(guān)鍵詞：電子束光刻膠成膜樹脂研究進展

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【摘要】：電子束光刻作為下一代光刻技術(shù)(Next Generation Lithography,NGL),以其分辨率高和性能穩(wěn)定被認(rèn)為是在22nm節(jié)點最具有發(fā)展前景的光刻技術(shù)之一。本文歸納了電子束光刻膠用成膜樹脂,主要分為聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、樹枝狀聚合物、分子玻璃、有機硅及碳材料等應(yīng)用于電子束光刻的成膜樹脂類型,綜述了其研究進展,最后對電子束光刻膠未來的發(fā)展前景和方向進行了展望。
【作者單位】： 江南大學(xué)化學(xué)與材料工程學(xué)院;蘇州瑞紅電子化學(xué)品有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 電子束 光刻膠 成膜樹脂 研究進展
【基金】：江蘇省產(chǎn)學(xué)研前瞻性聯(lián)合研究項目(No.BY2015019-14) 國家重大科技專項(No.2010ZX02304) 江蘇省普通高校學(xué)術(shù)學(xué)位研究生科研創(chuàng)新計劃(No.KYLX_1127)的資助
【分類號】：TN305.7;TQ325.7
【正文快照】： 1引言微電子產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展要求半導(dǎo)體器件的特征尺寸越來越小,器件特征尺寸的減小一方面依賴于曝光工具,另一方面也與光刻膠的選擇密切相關(guān)。目前集成電路的最小特征尺寸已從微米級、亞微米級進入納米水平,曝光光源也經(jīng)歷了從早期的近紫外G線(436n m)和I線(365n m),到深紫外(

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1 ;產(chǎn)品開發(fā)[J];廣州化工;2006年01期

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本文編號：1027271