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脈沖激光沉積及硒化法制備Cu(In,Ga)Se 2 薄膜研究

發(fā)布時間:2023-05-31 19:15
  采用脈沖激光沉積和硒化后熱處理的方法在石英襯底上制備Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜,研究脈沖激光沉積(PLD)技術在制備CIGS薄膜太陽能電池材料上的應用,分析了不同預制層沉積順序及厚度對CIGS薄膜組織結構、表面形貌、成分以及光學性能的影響。結果表明:利用PLD技術及后硒化處理工藝,制得的CIGS太陽能電池吸收層具有純相和高結晶度等特性;CuGa/In金屬預制層的疊層順序和疊層數(shù)、硒化退火溫度對薄膜的結晶質量、晶粒尺寸、成分都具有重要影響,其中疊層順序影響最為明顯;樣品均表現(xiàn)出對可見光區(qū)具有透射率低和吸收系數(shù)高的光學特性。本研究為制備性能優(yōu)良的CIGS太陽能電池吸收層,提供了一個新穎的工藝手段。

【文章頁數(shù)】:7 頁

【文章目錄】:
1 實驗
2 結果與討論
    2.1 CIGS薄膜XRD分析
    2.2 CIGS薄膜Raman分析
    2.3 CIGS薄膜SEM分析
    2.4 CIGS薄膜EDS分析
    2.5 CIGS薄膜光學性質分析
3 結論



本文編號:3825850

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