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氧化物/金屬/氧化物疊層透明導電薄膜研究

發(fā)布時間:2022-01-06 20:12
  透明導電氧化物薄膜(TCO)因其具有金屬般的導電性和玻璃般的高透光性廣泛應用于平板顯示器、太陽能電池等領域中。綜合透明導電氧化物薄膜的發(fā)展現(xiàn)狀來看,銦錫氧化物(ITO)是目前應用最為廣泛,綜合性能最好的。但是金屬銦是稀缺資源,所以會導致ITO成本高昂。因此,本論文重點討論基于Nb2O5的多層透明導電薄膜來取代ITO。本文主要采用磁控濺射的方法,在室溫下制備Nb2O5/Ag/Nb2O5、Nb2O5/Ag/Zn O和Nb2O5-Zn O/Ag/Nb2O5-Zn O三種多層的氧化物薄膜,主要從以下幾個方面進行研究:(1)用射頻(RF)磁控濺射法制備上下層的金屬氧化物薄膜,并分析其厚度對整個多層電極性能的影響。(2)用直流(DC)磁控濺射法制備中間金屬層Ag,并分析討論Ag膜的厚度和Ag膜的晶粒尺寸對整個多層電極的影響。(3)用射頻(RF)磁控濺射法制備Nb2O5和Zn O混合薄膜,分析其性質(zhì),并制備成多層電極,討論其光電性能。第三章中,用射頻磁控濺射制備上下層的Nb2O5,直流磁控濺射制備Ag層,從而在玻璃基底上制備出Nb2O5/Ag/Nb2O5三明治結構的透明導電薄膜。采用掃描電子顯微鏡(... 

【文章來源】:南京郵電大學江蘇省

【文章頁數(shù)】:69 頁

【學位級別】:碩士

【部分圖文】:

氧化物/金屬/氧化物疊層透明導電薄膜研究


透明導電薄膜的應用

結構示意圖,透明導電


學位碩士研究生學位論文 效改善氧化物薄膜性質(zhì)的有效手段,最常見的就是金屬元素 共摻 ZnO[18]等。與摻雜一種元素相比,多種元素共摻能有效電性。第二個方式是多層結構的薄膜,人們?yōu)榱吮∧た梢垣@個薄膜的電阻,發(fā)現(xiàn)形如“氧化物/金屬層/氧化物”的疊層透TiO2/Ag/TiO2,ZnO/Cu/ZnO 等[19~21]結構的多層薄膜可以有效層的金屬氧化物和中間的金屬層來獲得高品質(zhì)的透明導電薄據(jù)不同的氧化物材料,可以改變各個膜層的厚度,通過調(diào)節(jié)在可見光范圍內(nèi)有較高的透射率。研究發(fā)現(xiàn),疊層透明導電電性,而且制備條件也很簡單,在室溫即可,同時還具備生性等優(yōu)點[22]。

結構圖,鐵錳礦,體心立方,結構圖


圖 1.3 體心立方鐵錳礦結構圖六方纖鋅礦結構,如圖 1.4 所示。ZnO 同時具備光當 ZnO 薄膜中存在天然的氧空位和 Zn 原子間隙,以通過在 ZnO 薄膜中進行摻雜,如 Al 等原子,能就是 AZO 薄膜(Al 摻 ZnO)。另一方面,ZnO 薄膜性較高,是最有前途的取代 ITO 薄膜的透明導電氧

【參考文獻】:
期刊論文
[1]透明導電氧化物薄膜材料研究進展[J]. 劉宏燕,顏悅,望詠林,伍建華,張官理,厲蕾.  航空材料學報. 2015(04)
[2]濺射功率對ZnO:Si透明導電薄膜性能的影響[J]. 馮祝,萬云芳.  人工晶體學報. 2013(10)
[3]ZnO薄膜的透射光譜研究[J]. 萬步勇.  激光雜志. 2007(06)
[4]Al摻雜的ZnO薄膜的XPS譜和光學特性研究[J]. 李麗,常仁杰,方亮,李秋俊,陳希明,馮世娟.  微細加工技術. 2007(05)
[5]透明導電氧化物薄膜材料及其制備技術研究進展[J]. 徐慢,夏冬林,趙修建.  材料導報. 2006(S2)
[6]RF磁控濺射法制備ZnO薄膜的XRD分析[J]. 汪冬梅,呂珺,陳長奇,吳玉程,鄭治祥.  理化檢驗(物理分冊). 2006(01)
[7]X射線衍射分析的實驗方法及其應用[J]. 胡林彥,張慶軍,沈毅.  河北理工學院學報. 2004(03)
[8]基片光學特性對薄膜光強透過譜的影響[J]. 余云鵬,林舜輝,黃翀,林璇英.  物理實驗. 2004(05)

碩士論文
[1]TiO2薄膜的制備及厚度對其光學性質(zhì)的影響[D]. 徐子杰.復旦大學 2013
[2]電化學沉積法制備ZnO納米材料及其光催化性質(zhì)研究[D]. 李雪.長春理工大學 2010



本文編號:3573093

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