氯離子與溴離子對(duì)陶瓷類(lèi)管殼電鍍鎳的影響
發(fā)布時(shí)間:2021-06-07 10:29
采用氨基磺酸鹽體系對(duì)陶瓷類(lèi)管殼電鍍鎳,研究了氯離子與溴離子的質(zhì)量濃度對(duì)鍍液pH穩(wěn)定性,以及鍍層厚度均勻性、表面形貌和抗疲勞性的影響。結(jié)果表明,溴離子對(duì)鍍液pH穩(wěn)定性與鍍層厚度均勻性的改善效果更顯著;當(dāng)質(zhì)量濃度低于6 g/L時(shí),溴離子對(duì)鍍層致密度和抗疲勞性的改善效果都優(yōu)于氯離子;當(dāng)質(zhì)量濃度高于8 g/L時(shí)反之。
【文章來(lái)源】:電鍍與涂飾. 2020,39(13)北大核心CSCD
【文章頁(yè)數(shù)】:4 頁(yè)
【部分圖文】:
陶瓷類(lèi)封裝管殼
從圖3可以看出,隨溴離子質(zhì)量濃度增大,鍍層均勻性逐漸改善,溴離子質(zhì)量濃度為8 g/L時(shí),鍍層最均勻,繼續(xù)增大溴離子質(zhì)量濃度到10 g/L時(shí),鍍層均勻性反而變差。鍍液中氯離子的質(zhì)量濃度為2~6 g/L時(shí),鍍層的均勻性反而不如未加氯離子時(shí),增大氯離子的質(zhì)量濃度到8~10 g/L時(shí),鍍層厚度均勻性才得到改善?梢(jiàn)溴離子能有效改善鍍層均勻性,氯離子在質(zhì)量濃度高于6 g/L時(shí)才對(duì)鍍層均勻性有改善作用,但不是很顯著。圖3 氯離子和溴離子質(zhì)量濃度對(duì)鎳鍍層厚度均勻性的影響
氯離子和溴離子質(zhì)量濃度對(duì)鎳鍍層厚度均勻性的影響
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]NiCl2含量對(duì)電沉積Ni-納米TiN復(fù)合鍍層過(guò)程的影響[J]. 李霖泰,吳蒙華,王元?jiǎng)?王邦國(guó),寧智. 表面技術(shù). 2015(09)
[2]溶液組分對(duì)電鑄鎳組織和力學(xué)性能的影響[J]. 錢(qián)建剛,李彭瑞,李海婷. 航空材料學(xué)報(bào). 2014(02)
[3]電鍍厚鎳層的力學(xué)性能研究[J]. 陳建群,周萬(wàn)城,韋萍. 熱加工工藝. 2014(04)
[4]氨基磺酸鹽鍍鎳過(guò)程中內(nèi)應(yīng)力產(chǎn)生及變化的因素與機(jī)理[J]. 李延偉,姚金環(huán),楊哲龍. 材料保護(hù). 2008(10)
[5]氯離子在鍍鎳中的作用[J]. 于廷杰. 電鍍與精飾. 1992(05)
本文編號(hào):3216408
【文章來(lái)源】:電鍍與涂飾. 2020,39(13)北大核心CSCD
【文章頁(yè)數(shù)】:4 頁(yè)
【部分圖文】:
陶瓷類(lèi)封裝管殼
從圖3可以看出,隨溴離子質(zhì)量濃度增大,鍍層均勻性逐漸改善,溴離子質(zhì)量濃度為8 g/L時(shí),鍍層最均勻,繼續(xù)增大溴離子質(zhì)量濃度到10 g/L時(shí),鍍層均勻性反而變差。鍍液中氯離子的質(zhì)量濃度為2~6 g/L時(shí),鍍層的均勻性反而不如未加氯離子時(shí),增大氯離子的質(zhì)量濃度到8~10 g/L時(shí),鍍層厚度均勻性才得到改善?梢(jiàn)溴離子能有效改善鍍層均勻性,氯離子在質(zhì)量濃度高于6 g/L時(shí)才對(duì)鍍層均勻性有改善作用,但不是很顯著。圖3 氯離子和溴離子質(zhì)量濃度對(duì)鎳鍍層厚度均勻性的影響
氯離子和溴離子質(zhì)量濃度對(duì)鎳鍍層厚度均勻性的影響
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]NiCl2含量對(duì)電沉積Ni-納米TiN復(fù)合鍍層過(guò)程的影響[J]. 李霖泰,吳蒙華,王元?jiǎng)?王邦國(guó),寧智. 表面技術(shù). 2015(09)
[2]溶液組分對(duì)電鑄鎳組織和力學(xué)性能的影響[J]. 錢(qián)建剛,李彭瑞,李海婷. 航空材料學(xué)報(bào). 2014(02)
[3]電鍍厚鎳層的力學(xué)性能研究[J]. 陳建群,周萬(wàn)城,韋萍. 熱加工工藝. 2014(04)
[4]氨基磺酸鹽鍍鎳過(guò)程中內(nèi)應(yīng)力產(chǎn)生及變化的因素與機(jī)理[J]. 李延偉,姚金環(huán),楊哲龍. 材料保護(hù). 2008(10)
[5]氯離子在鍍鎳中的作用[J]. 于廷杰. 電鍍與精飾. 1992(05)
本文編號(hào):3216408
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