甲基磺酸鹽高速電鍍錫工藝仿真研究
發(fā)布時間:2021-01-05 19:58
為了更為真實地模擬高速電鍍錫試驗過程,開發(fā)了一種高速電鍍錫仿真系統(tǒng)。研究了奎克添加劑體積分數(shù)、電流密度和溫度對甲基磺酸(MSA)體系電鍍錫板表面形貌和耐蝕性的影響,得到較佳工藝參數(shù)為:游離酸(35±5) mL/L,抗氧化劑(20±5) mL/L,Sn2+(20±5) g/L,奎克添加劑(45±5) mL/L,溫度(40±5)℃,電流密度(25±5) A/dm2。該條件下所得鍍錫板鍍層均勻,耐蝕性好。
【文章來源】:電鍍與涂飾. 2020,39(19)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
高速電鍍錫仿真系統(tǒng)示意圖
在溫度40°C和電流密度20 A/dm2的條件下,采用奎克添加劑體積分數(shù)不同的鍍液電鍍5 s,所得鍍錫板的SEM照片如圖2所示。可見奎克添加劑對鍍層顯微形貌的影響較大。添加劑體積分數(shù)為15 mL/L時,鍍層晶粒尺寸不均勻,整體偏大,并且存在漏鍍現(xiàn)象。奎克添加劑體積分數(shù)為25 mL/L時,鍍層晶粒尺寸相對均勻,但依舊偏大,晶界不清晰?颂砑觿w積分數(shù)為35 mL/L時,鍍層晶粒均勻、細小,表面形貌最佳。繼續(xù)增大奎克添加劑的體積分數(shù),鍍層晶粒再次變大。從表1可知,隨著奎克添加劑體積分數(shù)的增大,鍍錫板在0.1 mol/L檸檬酸鈉溶液中的腐蝕電流密度先減小,奎克添加劑體積分數(shù)達到35 mL/L后,腐蝕電流密度變化不明顯。綜合考慮鍍錫層的表面形貌和耐蝕性,建議選擇奎克添加劑的體積分數(shù)為(35±5) mL/L。
從圖4可知,鍍液溫度對鍍層結(jié)構(gòu)的影響程度不如添加劑和電流密度。鍍液溫度為20°C時,鍍層晶粒細小,但部分晶粒凸出。溫度為40°C時,鍍層晶粒均勻、細小。升溫至60°C時,鍍層晶粒變大,而且不均勻,同時晶界開始變模糊。在20、40和60°C下獲得的鍍錫板的腐蝕電流密度相近,分別為8.46×10-5、8.55×10-5和8.46×10-5 mA/dm2。綜合考慮鍍錫板的表面形貌和耐蝕性,選擇鍍液溫度為(40±5)°C。圖4 鍍液溫度對鍍錫板表面形貌的影響
【參考文獻】:
期刊論文
[1]甲基磺酸體系鍍錫液中Fe2+含量對鍍錫層性能的影響[J]. 萬一群,沈鵬杰,吉學軍,胡建軍,王傳薈. 電鍍與涂飾. 2019(23)
[2]高速赫爾槽在高速鍍錫液中的研究應(yīng)用[J]. 黎德育,趙子微,孔德龍,李寧,WU Gang. 表面技術(shù). 2018(11)
[3]鍍錫電鍍工藝及MSA電鍍體系添加劑的研究[J]. 潘夢雅,李萍,岑豫皖,王文將,張千峰. 安徽工業(yè)大學學報(自然科學版). 2017(03)
[4]甲基磺酸鍍錫工藝的研究與應(yīng)用[J]. 李鵬,黃邦霖,尚元艷. 寶鋼技術(shù). 2017(01)
[5]甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫技術(shù)[J]. 王強,王甜甜. 中國冶金. 2016(11)
[6]工藝參數(shù)對高速鍍錫電流效率及鍍錫層表面形貌的影響[J]. 蔡峰,劉新院,陳愛華,李化龍. 電鍍與環(huán)保. 2016(03)
[7]甲基磺酸鹽電鍍錫工藝參數(shù)對鍍層結(jié)合力影響[J]. 陰子良,葉東東,陳廣,陳建鈞. 腐蝕與防護. 2015(12)
[8]亞鐵離子對甲磺酸高速鍍錫溶液電化學行為及其鍍層的影響[J]. 王志登,王洺浩,王熙禹,黎德育,李寧. 電鍍與涂飾. 2015(20)
[9]甲基磺酸鹽電鍍錫的鍍層性能[J]. 李立清,陳早明. 腐蝕與防護. 2007(10)
本文編號:2959211
【文章來源】:電鍍與涂飾. 2020,39(19)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
高速電鍍錫仿真系統(tǒng)示意圖
在溫度40°C和電流密度20 A/dm2的條件下,采用奎克添加劑體積分數(shù)不同的鍍液電鍍5 s,所得鍍錫板的SEM照片如圖2所示。可見奎克添加劑對鍍層顯微形貌的影響較大。添加劑體積分數(shù)為15 mL/L時,鍍層晶粒尺寸不均勻,整體偏大,并且存在漏鍍現(xiàn)象。奎克添加劑體積分數(shù)為25 mL/L時,鍍層晶粒尺寸相對均勻,但依舊偏大,晶界不清晰?颂砑觿w積分數(shù)為35 mL/L時,鍍層晶粒均勻、細小,表面形貌最佳。繼續(xù)增大奎克添加劑的體積分數(shù),鍍層晶粒再次變大。從表1可知,隨著奎克添加劑體積分數(shù)的增大,鍍錫板在0.1 mol/L檸檬酸鈉溶液中的腐蝕電流密度先減小,奎克添加劑體積分數(shù)達到35 mL/L后,腐蝕電流密度變化不明顯。綜合考慮鍍錫層的表面形貌和耐蝕性,建議選擇奎克添加劑的體積分數(shù)為(35±5) mL/L。
從圖4可知,鍍液溫度對鍍層結(jié)構(gòu)的影響程度不如添加劑和電流密度。鍍液溫度為20°C時,鍍層晶粒細小,但部分晶粒凸出。溫度為40°C時,鍍層晶粒均勻、細小。升溫至60°C時,鍍層晶粒變大,而且不均勻,同時晶界開始變模糊。在20、40和60°C下獲得的鍍錫板的腐蝕電流密度相近,分別為8.46×10-5、8.55×10-5和8.46×10-5 mA/dm2。綜合考慮鍍錫板的表面形貌和耐蝕性,選擇鍍液溫度為(40±5)°C。圖4 鍍液溫度對鍍錫板表面形貌的影響
【參考文獻】:
期刊論文
[1]甲基磺酸體系鍍錫液中Fe2+含量對鍍錫層性能的影響[J]. 萬一群,沈鵬杰,吉學軍,胡建軍,王傳薈. 電鍍與涂飾. 2019(23)
[2]高速赫爾槽在高速鍍錫液中的研究應(yīng)用[J]. 黎德育,趙子微,孔德龍,李寧,WU Gang. 表面技術(shù). 2018(11)
[3]鍍錫電鍍工藝及MSA電鍍體系添加劑的研究[J]. 潘夢雅,李萍,岑豫皖,王文將,張千峰. 安徽工業(yè)大學學報(自然科學版). 2017(03)
[4]甲基磺酸鍍錫工藝的研究與應(yīng)用[J]. 李鵬,黃邦霖,尚元艷. 寶鋼技術(shù). 2017(01)
[5]甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫技術(shù)[J]. 王強,王甜甜. 中國冶金. 2016(11)
[6]工藝參數(shù)對高速鍍錫電流效率及鍍錫層表面形貌的影響[J]. 蔡峰,劉新院,陳愛華,李化龍. 電鍍與環(huán)保. 2016(03)
[7]甲基磺酸鹽電鍍錫工藝參數(shù)對鍍層結(jié)合力影響[J]. 陰子良,葉東東,陳廣,陳建鈞. 腐蝕與防護. 2015(12)
[8]亞鐵離子對甲磺酸高速鍍錫溶液電化學行為及其鍍層的影響[J]. 王志登,王洺浩,王熙禹,黎德育,李寧. 電鍍與涂飾. 2015(20)
[9]甲基磺酸鹽電鍍錫的鍍層性能[J]. 李立清,陳早明. 腐蝕與防護. 2007(10)
本文編號:2959211
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