基于銀納米線-金屬氧化物柔性復(fù)合電極的研究
【學位單位】:長春理工大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2018
【中圖分類】:TM914.42
【部分圖文】:
的背景電極概述電極(TransparentConductiveElectrode,TCE)是太陽能電池、顯的核心組成部分之一[1-3]。19 世紀末,由于光電導(dǎo)器件的發(fā)展作為電極材料;20 世紀初,研究者將 CdO 材料應(yīng)用在了光電;第二次世界大戰(zhàn)期間,對飛機玻璃的高要求催生了寬禁帶簡后對 SnO2材料的研究逐漸深入并且應(yīng)用到了其他領(lǐng)域,透明導(dǎo)一個新的時期[4-6];20 世紀 50 年代,第二種透明導(dǎo)電薄膜 In2O代,以蒸發(fā)和濺射的方式沉積 InOx薄膜的技術(shù)逐漸成熟,特備成氧化銦錫 (IndiumTinOxide,ITO)后,TCE 的導(dǎo)電性大導(dǎo)電薄膜方面得到了普遍的應(yīng)用;20 世紀 80 年代,利用磁控高透光性的 ITO 導(dǎo)電膜技術(shù)被開發(fā)出來,2000 年以后透明導(dǎo)電 為主[7-9],磁控濺射 ITO 成為市場上制程的主流[10-13]。
O-TCE 仍是當前觸控屏、顯示面板最主要的應(yīng)用材料,但是隨著電子產(chǎn)品的 薄膜面臨的挑戰(zhàn)也逐漸凸顯[14-17]:首先,銦作為一種稀有金屬,地球上的存布分散,其儲量只有黃金儲量的 1/6,且可開采的大約只有 50%,隨著液晶面伏薄膜電池產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,高純度銦材料的需求和來源日益緊張,通過實度的“開源節(jié)流”模式并沒有改善銦價持續(xù)走高的現(xiàn)狀;其次,在高溫磁控濺射 過程中只有 3%~30%的有效利用率且制程技術(shù)過度集中單一;另一方面,IT材料,而電極通常做的的很薄,通常為幾百納米甚至是幾十納米,經(jīng)彎曲后易響導(dǎo)電,這使 ITO-TCE 在下一代柔性電子產(chǎn)品的應(yīng)用受到限制。年來,為了尋找 ITO 的替代材料,很多研究機構(gòu)已致力于開發(fā)潛在的透明導(dǎo)柔性特征的納米材料。如含量豐富且無毒的摻雜氧化鋅材料如摻鋁的氧化num doped Zinc oxide, AZO)[18-19],摻鎵的氧化鋅(Gallium doped Zinc o-21];柔性碳基材料如碳納米管(CarbonNanotubes,CNT)[22]、石墨烯(Graphen性金屬納米線材料如銀納米線(AgNWs)[25-26],銅納米線(CuNWs)[27-28];可攜荷交替單元的柔性導(dǎo)電聚合物材料如聚 3,4-乙撐二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸T:PSS)[29-30]等。
圖 2.1ALD 設(shè)備實物圖和結(jié)構(gòu)單元簡圖單元可分為前驅(qū)體控制單元和載氣控制單元,載氣運載著先吸附在基片上,然后再和第二種前驅(qū)體在腔內(nèi)發(fā)生自厚度進行逐層生長。ALD 主要由兩個基本的沉積機制:一吸附或者物理吸附直至飽和的過程,二是前驅(qū)體在表面交沉積流程大致可以分為四個階段[58-59]:溫度環(huán)境中,第一種前驅(qū)體通過脈沖的方式被注入腔體學吸附,使基底表面產(chǎn)生可與第二種前驅(qū)體反應(yīng)的官能團,吹去多余的前驅(qū)體和反應(yīng)副產(chǎn)物;種前驅(qū)體,與基片表面官能團反應(yīng),同樣通入惰性氣體產(chǎn)物,完成一個半循環(huán);第一種前驅(qū)體,與上一反應(yīng)生成的表面官能團反應(yīng),同體和反應(yīng)副產(chǎn)物,完成第二個半循環(huán);即為一個 ALD 循環(huán),生成一層所需材料。成長Al2O3膜為例,詳細解釋在氫鈍化的矽基材(SiH)表面
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本文編號:2859077
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