天堂国产午夜亚洲专区-少妇人妻综合久久蜜臀-国产成人户外露出视频在线-国产91传媒一区二区三区

當(dāng)前位置:主頁(yè) > 科技論文 > 電力論文 >

基于PECVD原位氧化法制備超薄氧化硅隧穿層及在高效TOPCon太陽(yáng)電池中的應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間:2020-09-11 20:36
   基于世界能源短缺的問(wèn)題,我們需要發(fā)展新能源,太陽(yáng)能作為性價(jià)比最高的可再生能源受到廣泛關(guān)注,2017年已經(jīng)占中國(guó)可再生能源裝機(jī)總量的66%。目前市場(chǎng)上太陽(yáng)電池主要以傳統(tǒng)晶硅電池為主,但晶硅技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)激烈,所以需要發(fā)展更加高效的電池。在高效太陽(yáng)能電池中,隧穿氧化物鈍化接觸太陽(yáng)電池(Tunnel Oxide Passivated Contact solar cell,TOPCon)由于其良好的表面鈍化且與傳統(tǒng)電池產(chǎn)線兼容而備受國(guó)際光伏市場(chǎng)的關(guān)注。該電池是采用高質(zhì)量的超薄氧化硅和摻雜多晶硅層,實(shí)現(xiàn)全背面的高效鈍化和載流子選擇性收集。全面積鈍化表面使得無(wú)硅/金屬接觸界面,有利于提升開(kāi)路電壓(Open Circuit Voltage,V_(oc)),而全面積地收集載流子,可以降低壽命敏感度,有利于提升填充因子(Fill Factor,FF)。除此之外,該電池還具有1)無(wú)需激光開(kāi)孔;2)采用N型硅片無(wú)光致衰減;3)兼容中高溫?zé)Y(jié);4)技術(shù)可拓展性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。在常規(guī)的TOPCon電池中,是以摻磷的晶體硅(即N型晶體硅,n-cSi)為襯底,用硝酸氧化法制備超薄氧化硅,然后利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma-Ehanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)法沉積非晶硅,再進(jìn)行高溫晶化退火,以達(dá)到良好的鈍化效果。傳統(tǒng)方法的缺點(diǎn)是硝酸對(duì)環(huán)境有污染,使用過(guò)程酸霧過(guò)大易造成批次間的不穩(wěn)定,換液成本高,不利于產(chǎn)業(yè)化批量生產(chǎn)。本論文主要基于解決上述問(wèn)題,其研究?jī)?nèi)容和相關(guān)成果如下:1.為取代濃硝酸生長(zhǎng)的1~2nm的高質(zhì)量超薄氧化硅層,且簡(jiǎn)化工藝,以實(shí)現(xiàn)鈍化層和背場(chǎng)層的一次PECVD沉積,采用等離子體輔助笑氣(Nitrous Oxide,N_2O)氧化處理法在硅片上生長(zhǎng)高質(zhì)量的超薄氧化硅層,我們簡(jiǎn)稱之為笑氣氧化硅(N_2O SiO_x)。首先系統(tǒng)地研究了PECVD制備N_2O SiO_x層的工藝參數(shù)(沉積時(shí)間、射頻功率、沉積溫度)對(duì)氧化硅厚度的影響。N_2O SiO_x的厚度為2~3nm,雖然較濃硝酸生長(zhǎng)的SiO_x厚,但也可保證該氧化硅厚度可以滿足載流子運(yùn)輸條件。在厚度滿足的基礎(chǔ)上,探究了N_2O SiO_x的質(zhì)量,并且與濃硝酸生長(zhǎng)的SiO_x(簡(jiǎn)稱為硝酸氧化硅)進(jìn)行對(duì)比。對(duì)比可知,N_2O SiO_x中含四價(jià)SiO_x較硝酸SiO_x的多,質(zhì)量比硝酸生長(zhǎng)的SiO_x的好。SiO_x厚度的測(cè)量是通過(guò)橢圓偏振光譜儀進(jìn)行的,SiO_x的質(zhì)量是通過(guò)X射線光電子能譜分析得到的。2.在N_2O SiO_x厚度和質(zhì)量滿足隧穿條件的基礎(chǔ)上,用其取代硝酸SiO_x,制備結(jié)構(gòu)為poly-Si/SiO_x/n-cSi/SiO_x/poly-Si的雙面鈍化結(jié)構(gòu)。首先探究了不同退火溫度對(duì)該鈍化結(jié)構(gòu)的影響,然后通過(guò)拉曼光譜和電化學(xué)電容電壓法對(duì)鈍化層進(jìn)行表征和深入的分析,以改進(jìn)鈍化效果。結(jié)果表明,N_2O SiO_x鈍化結(jié)構(gòu)的最佳退火溫度為880℃,較濃硝酸SiO_x鈍化結(jié)構(gòu)的最佳退火溫度820℃高。從ECV可得,N_2O SiO_x的最佳退火溫度高是因?yàn)榈入x子體生長(zhǎng)的SiO_x致密度比硝酸濕法生長(zhǎng)的高,因此需要更高的退火溫度,以保證摻雜層有合適的擴(kuò)散濃度。3.為滿足電池制備的要求,在良好鈍化的基礎(chǔ)上本文還探究了poly-Si/SiO_x層的接觸電阻,測(cè)量接觸電阻的樣品結(jié)構(gòu)為GaIn/n-cSi/N_2O SiO_x/n~+-poly-Si:H/Al dot。分別探究了不同N_2O SiO_x制備溫度和厚度對(duì)該結(jié)構(gòu)的影響,除此之外,還探究了poly-Si和SiO_x層不同退火溫度對(duì)接觸電阻的影響。結(jié)果表面,溫度越高,厚度越大,接觸電阻越大,退火溫度越高,接觸電阻越小。但接觸電阻值均小于10mΩ·cm~2,用于電池制備的鈍化層的接觸電阻為4.9mΩ·cm~2,滿足電池制備的要求。4.在襯底為n型太陽(yáng)能級(jí)硅上擴(kuò)硼,然后制備背面鈍化結(jié)構(gòu)為poly-Si/SiO_x,前表面鈍化結(jié)構(gòu)為氧化鋁和氮化硅結(jié)構(gòu)的TOPCon電池,電極通過(guò)光刻制備,目前得到N_2O SiO_x的電池效率可達(dá)19.38%,與同批次NAOS SiO_x的結(jié)果相當(dāng)。
【學(xué)位單位】:浙江師范大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2019
【中圖分類】:TQ127.2;TM914.4
【部分圖文】:

結(jié)構(gòu)圖,結(jié)構(gòu)圖,電池


圖 1.1 鈍化發(fā)射極太陽(yáng)電池(PESC)結(jié)構(gòu)圖[34]ESC 的問(wèn)題,人們提出了鈍化發(fā)射極和背面電池(PPERC)的結(jié)構(gòu),如圖 1.2 所示。該電池前后均用氯

結(jié)構(gòu)圖,電池,結(jié)構(gòu)圖,背面接觸


圖 1.2 鈍化發(fā)射極和背面電池(PERC)結(jié)構(gòu)圖[22]步改善 PERC 電池的性能,于是在 PERC 的基礎(chǔ)上的SiOx鈍化層和減反層,在電池背面接觸孔處進(jìn)行背面定域擴(kuò)散(Passivated Emitter,rear locally-diffu

電池結(jié)構(gòu),改進(jìn)方法,區(qū)域


鈍化發(fā)射極背面定域擴(kuò)散(PERL)電池結(jié)構(gòu)圖

【相似文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 凌緒玉;;PECVD法制備氮化硅薄膜的電學(xué)性能研究[J];西南民族大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2013年04期

2 趙崇友;蔡先武;;PECVD制備氮化硅薄膜的研究[J];半導(dǎo)體光電;2011年02期

3 席彩萍;;催化劑種類對(duì)PECVD制備碳納米管的影響[J];渭南師范學(xué)院學(xué)報(bào);2011年12期

4 楊景超;趙鋼;鄔玉亭;許曉慧;;PECVD氮化硅薄膜內(nèi)應(yīng)力試驗(yàn)研究[J];新技術(shù)新工藝;2008年01期

5 郭靖陽(yáng);陳澤祥;;基于PECVD的碳納米管生長(zhǎng)及其場(chǎng)致發(fā)射特性[J];真空電子技術(shù);2006年02期

6 ;Influence of substrate temperature on the deposition and structural properties of μc-Si:H thin films fabricated with VHF-PECVD[J];Optoelectronics Letters;2005年01期

7 劉雄飛,肖劍榮,簡(jiǎn)獻(xiàn)忠,王金斌,高金定;a-C∶F∶H films prepared by PECVD[J];Transactions of Nonferrous Metals Society of China;2004年03期

8 ;Instability of nc-Si: H Films Fabricated by PECVD[J];Semiconductor Photonics and Technology;1999年01期

9 姜利軍,趙潤(rùn)濤,陳翔,王旭洪,盛玫,徐立強(qiáng);交替頻率PECVD方法沉積低應(yīng)力氮化硅薄膜及其性質(zhì)研究[J];功能材料與器件學(xué)報(bào);1999年02期

10 俞誠(chéng);摻氟低氫PECVD氮化硅新工藝[J];半導(dǎo)體技術(shù);1988年06期

相關(guān)會(huì)議論文 前10條

1 劉洪伶;木易;王明月;董婧;苑進(jìn)社;;PECVD制備N摻雜類金剛石薄膜的光學(xué)特性[A];第十屆中國(guó)太陽(yáng)能光伏會(huì)議論文集:迎接光伏發(fā)電新時(shí)代[C];2008年

2 沈寅;王仁杰;馮春暖;汪釘崇;;PECVD石墨墊使用壽命的改善[A];第十屆中國(guó)太陽(yáng)能光伏會(huì)議論文集:迎接光伏發(fā)電新時(shí)代[C];2008年

3 ;SiH Interacting with Si surface and Formation of Hydrogenated Silicon Films:MD study[A];第十四屆全國(guó)核物理大會(huì)暨第十屆會(huì)員代表大會(huì)論文集[C];2010年

4 ;Modelling of the effects of VHF on silicon film deposition at atmospheric pressure[A];第十五屆全國(guó)等離子體科學(xué)技術(shù)會(huì)議會(huì)議摘要集[C];2011年

5 ;Comparative Investigation on Hydrogenated Microcrystalline Silicon Films Deposited with RF-and VHF-PECVD Technique[A];2006年上海電子電鍍學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)資料匯編[C];2006年

6 楊恢東;劉麗娟;黃君凱;;非晶硅/微晶硅過(guò)渡區(qū)材料的PECVD法制備與特性研究[A];第十屆中國(guó)太陽(yáng)能光伏會(huì)議論文集:迎接光伏發(fā)電新時(shí)代[C];2008年

7 葉小琴;王文靜;李艷;勵(lì)旭東;許穎;周宏余;;PECVD沉積氮化硅薄膜在生長(zhǎng)及退火過(guò)程中的特性變化及在太陽(yáng)電池中的應(yīng)用[A];21世紀(jì)太陽(yáng)能新技術(shù)——2003年中國(guó)太陽(yáng)能學(xué)會(huì)學(xué)術(shù)年會(huì)論文集[C];2003年

8 王曉泉;汪雷;席珍強(qiáng);楊德仁;;PECVD法制備氮化硅減反射膜研究[A];21世紀(jì)太陽(yáng)能新技術(shù)——2003年中國(guó)太陽(yáng)能學(xué)會(huì)學(xué)術(shù)年會(huì)論文集[C];2003年

9 楊莉;陳強(qiáng);;PECVD法沉積類金剛石膜的研究[A];2008年全國(guó)荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議暨中國(guó)電工技術(shù)學(xué)會(huì)第十二屆電子束離子束學(xué)術(shù)年會(huì)、中國(guó)電子學(xué)會(huì)焊接專業(yè)委員會(huì)第九屆全國(guó)電子束焊接學(xué)術(shù)交流會(huì)、粒子加速器學(xué)會(huì)第十一屆全國(guó)離子源學(xué)術(shù)交流會(huì)、中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)焊接分會(huì)2008年全國(guó)高能束加工技術(shù)研討會(huì)、北京電機(jī)工程學(xué)會(huì)第十屆粒子加速器學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2008年

10 王慶;巴德純;徐香坤;徐化冰;;PECVD鍍膜機(jī)等離子體靜電探針診斷[A];2008中國(guó)儀器儀表與測(cè)控技術(shù)進(jìn)展大會(huì)論文集(Ⅰ)[C];2008年

相關(guān)重要報(bào)紙文章 前3條

1 記者 王冠/北京;全球七代線擴(kuò)廠拉開(kāi)序幕[N];電子資訊時(shí)報(bào);2004年

2 本報(bào)記者 張曉鳴;“四新”企業(yè)助上海制造升級(jí)“智造”[N];文匯報(bào);2014年

3 本報(bào)記者 羅朝淑;創(chuàng)新發(fā)展的“車馬炮”[N];科技日?qǐng)?bào);2007年

相關(guān)博士學(xué)位論文 前10條

1 藺增;利用射頻PECVD方法生長(zhǎng)類金剛石薄膜的實(shí)驗(yàn)研究[D];東北大學(xué);2004年

2 陸利新;PECVD非晶硅薄膜制程工藝仿真建模[D];上海大學(xué);2010年

3 楊光敏;碳納米管、納米金剛石、空心碳球及其復(fù)合物的PECVD制備和特性研究[D];吉林大學(xué);2010年

4 饒席;基于PECVD方法構(gòu)建微流體系統(tǒng)及其催化性能研究[D];東南大學(xué);2016年

5 許英敏;等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積制備碳素/氧化鋅復(fù)合材料及其特性的研究[D];吉林大學(xué);2009年

6 亓鈞雷;碳納米管、碳納米片、石墨烯及其復(fù)合物的制備和場(chǎng)發(fā)射性能的研究[D];吉林大學(xué);2010年

7 吳曉松;等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積氮化硅薄膜制造過(guò)程質(zhì)量控制方法研究[D];上海交通大學(xué);2015年

8 魯媛媛;太陽(yáng)能電池用硅基薄膜的微觀結(jié)構(gòu)調(diào)控與電學(xué)性能[D];西北工業(yè)大學(xué);2016年

9 石德權(quán);低氣壓管式放電等離子體及制備非晶氮化硅薄膜研究[D];大連理工大學(xué);2016年

10 韓喻;嵌套復(fù)式周期光子晶體結(jié)構(gòu)的帶隙模擬及制備方法研究[D];國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2007年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條

1 黃玉清;基于PECVD原位氧化法制備超薄氧化硅隧穿層及在高效TOPCon太陽(yáng)電池中的應(yīng)用[D];浙江師范大學(xué);2019年

2 吳尚池;PECVD系統(tǒng)淀積氮化硅工藝優(yōu)化的實(shí)現(xiàn)[D];電子科技大學(xué);2018年

3 路和超;石墨烯的低溫PECVD制備及其應(yīng)用探索研究[D];天津理工大學(xué);2014年

4 伍毅龍;氫對(duì)PECVD法制備硅基薄膜沉積速率、膜結(jié)構(gòu)及性能的影響[D];汕頭大學(xué);2010年

5 杜娟;PECVD技術(shù)制備碳納米管及其生長(zhǎng)參數(shù)的研究[D];吉林大學(xué);2006年

6 姚日英;PECVD沉積的氮化硅薄膜熱處理性質(zhì)研究[D];浙江大學(xué);2006年

7 楊輝輝;PECVD氮化硅薄膜熱導(dǎo)率特性的測(cè)試與研究[D];電子科技大學(xué);2013年

8 黃俊;PECVD制備a-SiC:H薄膜及激光退火研究[D];廈門大學(xué);2009年

9 于經(jīng);廉價(jià)襯底上PECVD法制備非晶硅薄膜的工藝研究[D];河北工業(yè)大學(xué);2010年

10 柳聰;PECVD工藝參數(shù)及退火對(duì)氮化硅薄膜性能的影響[D];電子科技大學(xué);2012年



本文編號(hào):2817144

資料下載
論文發(fā)表

本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianlilw/2817144.html


Copyright(c)文論論文網(wǎng)All Rights Reserved | 網(wǎng)站地圖 |

版權(quán)申明:資料由用戶75fbb***提供,本站僅收錄摘要或目錄,作者需要?jiǎng)h除請(qǐng)E-mail郵箱bigeng88@qq.com
91久久国产福利自产拍| 青青操日老女人的穴穴| 欧美加勒比一区二区三区| 欧美不卡一区二区在线视频| 在线免费国产一区二区三区| 黄色在线免费高清观看| 亚洲三级视频在线观看免费| 五月情婷婷综合激情综合狠狠| 精品久久av一二三区| 日韩一本不卡在线观看| 久久精品国产在热久久| 中国一区二区三区不卡| 色婷婷在线视频免费播放| 年轻女房东2中文字幕| 激情少妇一区二区三区| 欧洲偷拍视频中文字幕| 中文字幕高清不卡一区| 日韩午夜福利高清在线观看| 99国产一区在线播放| 成人免费视频免费观看| 国产内射一级一片内射高清| 不卡视频在线一区二区三区| 久久老熟女一区二区三区福利| 九九热在线免费在线观看| 性感少妇无套内射在线视频| 亚洲一区二区亚洲日本| 午夜资源在线观看免费高清| 日韩av生活片一区二区三区| 国内欲色一区二区三区| 果冻传媒精选麻豆白晶晶 | 久久国内午夜福利直播| 亚洲高清欧美中文字幕| 国产精品白丝一区二区| 亚洲一区二区三区在线免费| 国产免费黄片一区二区| 好骚国产99在线中文| 国产一区二区三区四区免费| 日韩免费av一区二区三区| 夜色福利久久精品福利| 欧美亚洲三级视频在线观看| 色播五月激情五月婷婷|