基于PECVD原位氧化法制備超薄氧化硅隧穿層及在高效TOPCon太陽(yáng)電池中的應(yīng)用
【學(xué)位單位】:浙江師范大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2019
【中圖分類】:TQ127.2;TM914.4
【部分圖文】:
圖 1.1 鈍化發(fā)射極太陽(yáng)電池(PESC)結(jié)構(gòu)圖[34]ESC 的問(wèn)題,人們提出了鈍化發(fā)射極和背面電池(PPERC)的結(jié)構(gòu),如圖 1.2 所示。該電池前后均用氯
圖 1.2 鈍化發(fā)射極和背面電池(PERC)結(jié)構(gòu)圖[22]步改善 PERC 電池的性能,于是在 PERC 的基礎(chǔ)上的SiOx鈍化層和減反層,在電池背面接觸孔處進(jìn)行背面定域擴(kuò)散(Passivated Emitter,rear locally-diffu
鈍化發(fā)射極背面定域擴(kuò)散(PERL)電池結(jié)構(gòu)圖
【相似文獻(xiàn)】
相關(guān)期刊論文 前10條
1 凌緒玉;;PECVD法制備氮化硅薄膜的電學(xué)性能研究[J];西南民族大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2013年04期
2 趙崇友;蔡先武;;PECVD制備氮化硅薄膜的研究[J];半導(dǎo)體光電;2011年02期
3 席彩萍;;催化劑種類對(duì)PECVD制備碳納米管的影響[J];渭南師范學(xué)院學(xué)報(bào);2011年12期
4 楊景超;趙鋼;鄔玉亭;許曉慧;;PECVD氮化硅薄膜內(nèi)應(yīng)力試驗(yàn)研究[J];新技術(shù)新工藝;2008年01期
5 郭靖陽(yáng);陳澤祥;;基于PECVD的碳納米管生長(zhǎng)及其場(chǎng)致發(fā)射特性[J];真空電子技術(shù);2006年02期
6 ;Influence of substrate temperature on the deposition and structural properties of μc-Si:H thin films fabricated with VHF-PECVD[J];Optoelectronics Letters;2005年01期
7 劉雄飛,肖劍榮,簡(jiǎn)獻(xiàn)忠,王金斌,高金定;a-C∶F∶H films prepared by PECVD[J];Transactions of Nonferrous Metals Society of China;2004年03期
8 ;Instability of nc-Si: H Films Fabricated by PECVD[J];Semiconductor Photonics and Technology;1999年01期
9 姜利軍,趙潤(rùn)濤,陳翔,王旭洪,盛玫,徐立強(qiáng);交替頻率PECVD方法沉積低應(yīng)力氮化硅薄膜及其性質(zhì)研究[J];功能材料與器件學(xué)報(bào);1999年02期
10 俞誠(chéng);摻氟低氫PECVD氮化硅新工藝[J];半導(dǎo)體技術(shù);1988年06期
相關(guān)會(huì)議論文 前10條
1 劉洪伶;木易;王明月;董婧;苑進(jìn)社;;PECVD制備N摻雜類金剛石薄膜的光學(xué)特性[A];第十屆中國(guó)太陽(yáng)能光伏會(huì)議論文集:迎接光伏發(fā)電新時(shí)代[C];2008年
2 沈寅;王仁杰;馮春暖;汪釘崇;;PECVD石墨墊使用壽命的改善[A];第十屆中國(guó)太陽(yáng)能光伏會(huì)議論文集:迎接光伏發(fā)電新時(shí)代[C];2008年
3 ;SiH Interacting with Si surface and Formation of Hydrogenated Silicon Films:MD study[A];第十四屆全國(guó)核物理大會(huì)暨第十屆會(huì)員代表大會(huì)論文集[C];2010年
4 ;Modelling of the effects of VHF on silicon film deposition at atmospheric pressure[A];第十五屆全國(guó)等離子體科學(xué)技術(shù)會(huì)議會(huì)議摘要集[C];2011年
5 ;Comparative Investigation on Hydrogenated Microcrystalline Silicon Films Deposited with RF-and VHF-PECVD Technique[A];2006年上海電子電鍍學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)資料匯編[C];2006年
6 楊恢東;劉麗娟;黃君凱;;非晶硅/微晶硅過(guò)渡區(qū)材料的PECVD法制備與特性研究[A];第十屆中國(guó)太陽(yáng)能光伏會(huì)議論文集:迎接光伏發(fā)電新時(shí)代[C];2008年
7 葉小琴;王文靜;李艷;勵(lì)旭東;許穎;周宏余;;PECVD沉積氮化硅薄膜在生長(zhǎng)及退火過(guò)程中的特性變化及在太陽(yáng)電池中的應(yīng)用[A];21世紀(jì)太陽(yáng)能新技術(shù)——2003年中國(guó)太陽(yáng)能學(xué)會(huì)學(xué)術(shù)年會(huì)論文集[C];2003年
8 王曉泉;汪雷;席珍強(qiáng);楊德仁;;PECVD法制備氮化硅減反射膜研究[A];21世紀(jì)太陽(yáng)能新技術(shù)——2003年中國(guó)太陽(yáng)能學(xué)會(huì)學(xué)術(shù)年會(huì)論文集[C];2003年
9 楊莉;陳強(qiáng);;PECVD法沉積類金剛石膜的研究[A];2008年全國(guó)荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議暨中國(guó)電工技術(shù)學(xué)會(huì)第十二屆電子束離子束學(xué)術(shù)年會(huì)、中國(guó)電子學(xué)會(huì)焊接專業(yè)委員會(huì)第九屆全國(guó)電子束焊接學(xué)術(shù)交流會(huì)、粒子加速器學(xué)會(huì)第十一屆全國(guó)離子源學(xué)術(shù)交流會(huì)、中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)焊接分會(huì)2008年全國(guó)高能束加工技術(shù)研討會(huì)、北京電機(jī)工程學(xué)會(huì)第十屆粒子加速器學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2008年
10 王慶;巴德純;徐香坤;徐化冰;;PECVD鍍膜機(jī)等離子體靜電探針診斷[A];2008中國(guó)儀器儀表與測(cè)控技術(shù)進(jìn)展大會(huì)論文集(Ⅰ)[C];2008年
相關(guān)重要報(bào)紙文章 前3條
1 記者 王冠/北京;全球七代線擴(kuò)廠拉開(kāi)序幕[N];電子資訊時(shí)報(bào);2004年
2 本報(bào)記者 張曉鳴;“四新”企業(yè)助上海制造升級(jí)“智造”[N];文匯報(bào);2014年
3 本報(bào)記者 羅朝淑;創(chuàng)新發(fā)展的“車馬炮”[N];科技日?qǐng)?bào);2007年
相關(guān)博士學(xué)位論文 前10條
1 藺增;利用射頻PECVD方法生長(zhǎng)類金剛石薄膜的實(shí)驗(yàn)研究[D];東北大學(xué);2004年
2 陸利新;PECVD非晶硅薄膜制程工藝仿真建模[D];上海大學(xué);2010年
3 楊光敏;碳納米管、納米金剛石、空心碳球及其復(fù)合物的PECVD制備和特性研究[D];吉林大學(xué);2010年
4 饒席;基于PECVD方法構(gòu)建微流體系統(tǒng)及其催化性能研究[D];東南大學(xué);2016年
5 許英敏;等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積制備碳素/氧化鋅復(fù)合材料及其特性的研究[D];吉林大學(xué);2009年
6 亓鈞雷;碳納米管、碳納米片、石墨烯及其復(fù)合物的制備和場(chǎng)發(fā)射性能的研究[D];吉林大學(xué);2010年
7 吳曉松;等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積氮化硅薄膜制造過(guò)程質(zhì)量控制方法研究[D];上海交通大學(xué);2015年
8 魯媛媛;太陽(yáng)能電池用硅基薄膜的微觀結(jié)構(gòu)調(diào)控與電學(xué)性能[D];西北工業(yè)大學(xué);2016年
9 石德權(quán);低氣壓管式放電等離子體及制備非晶氮化硅薄膜研究[D];大連理工大學(xué);2016年
10 韓喻;嵌套復(fù)式周期光子晶體結(jié)構(gòu)的帶隙模擬及制備方法研究[D];國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2007年
相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條
1 黃玉清;基于PECVD原位氧化法制備超薄氧化硅隧穿層及在高效TOPCon太陽(yáng)電池中的應(yīng)用[D];浙江師范大學(xué);2019年
2 吳尚池;PECVD系統(tǒng)淀積氮化硅工藝優(yōu)化的實(shí)現(xiàn)[D];電子科技大學(xué);2018年
3 路和超;石墨烯的低溫PECVD制備及其應(yīng)用探索研究[D];天津理工大學(xué);2014年
4 伍毅龍;氫對(duì)PECVD法制備硅基薄膜沉積速率、膜結(jié)構(gòu)及性能的影響[D];汕頭大學(xué);2010年
5 杜娟;PECVD技術(shù)制備碳納米管及其生長(zhǎng)參數(shù)的研究[D];吉林大學(xué);2006年
6 姚日英;PECVD沉積的氮化硅薄膜熱處理性質(zhì)研究[D];浙江大學(xué);2006年
7 楊輝輝;PECVD氮化硅薄膜熱導(dǎo)率特性的測(cè)試與研究[D];電子科技大學(xué);2013年
8 黃俊;PECVD制備a-SiC:H薄膜及激光退火研究[D];廈門大學(xué);2009年
9 于經(jīng);廉價(jià)襯底上PECVD法制備非晶硅薄膜的工藝研究[D];河北工業(yè)大學(xué);2010年
10 柳聰;PECVD工藝參數(shù)及退火對(duì)氮化硅薄膜性能的影響[D];電子科技大學(xué);2012年
本文編號(hào):2817144
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianlilw/2817144.html