【摘要】：采用恒電位法在鍍鎳工件表面制備聚8-羥基喹啉薄膜。研究了沉積電位、8-羥基喹啉濃度、Na OH濃度、沉積時(shí)間等工藝條件對(duì)薄膜耐蝕性的影響。分別采用鹽水周浸泡試驗(yàn)、三氯化鐵縫隙試驗(yàn)和Tafel極化曲線法對(duì)比研究了恒電位法電沉積試樣、循環(huán)伏安法電沉積試樣和空白工件的耐蝕性。采用掃描電鏡表征了聚8-羥基喹啉薄膜的表面形貌。恒電位法沉積的最佳工藝條件為:8-羥基喹啉2 mmol/L,Na OH 0.4 mol/L,電位0.5 V,時(shí)間300 s,室溫。采用最佳工藝所得薄膜的耐蝕性略優(yōu)于循環(huán)伏安法試樣,遠(yuǎn)優(yōu)于空白工件。
[Abstract]:Poly (8-hydroxyquinoline) thin films were prepared on nickel-plated workpiece by potentiostatic method. The effects of deposition potential, concentration of 8-hydroxyquinoline (, Na OH) and deposition time on the corrosion resistance of the films were studied. The corrosion resistance of electrodeposition samples by potentiostatic method, cyclic voltammetry and blank workpiece were studied by saltwater week immersion test, ferric chloride gap test and Tafel polarization curve method respectively. The surface morphology of poly (8-hydroxyquinoline) thin films was characterized by scanning electron microscope (SEM). The optimum conditions for deposition by potentiostatic method are as follows: 8-hydroxyquinoline 2 mmol/L,Na OH 0.4 mol/L, potential 0. 5 V, time 300 s, room temperature. The corrosion resistance of the film obtained by the best process is slightly better than that of the sample by cyclic voltammetry and is much better than that of the blank workpiece.
【作者單位】： 江西瑞林稀貴金屬科技有限公司;中南大學(xué)有色金屬資源化學(xué)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;中南大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院;特能寶化學(xué)原料有限公司;
【基金】：中南大學(xué)中央高�；究蒲袠I(yè)務(wù)費(fèi)專項(xiàng)資金(2013zzts172)
【分類號(hào)】：TQ153

【參考文獻(xiàn)】

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