發(fā)布時間：2018-06-13 18:15

  本文選題：電接觸元件 + 鎳��； 參考：《電鍍與涂飾》2014年24期

【摘要】：鎳鍍層作為生產(chǎn)電接觸元件中銅基體和銀復合層之間的過渡層,其可塑性、抗張強度、韌性和延展性均須滿足一定的要求。介紹了電接觸元件的生產(chǎn)工藝,對適合于電接觸元件的鍍鎳工藝進行了探討,獲得了較好的鍍鎳工藝條件:Ni SO4·7H2O250~350 g/L,Ni Cl2·6H2O 25~30 g/L,H3BO3 30~40 g/L,Mg SO4 20~50 g/L,(C12H25SO4)Na 0.01~0.02 g/L,p H 3~4,溫度40~50°C,電流密度2.0~2.5 A/dm2。該鍍鎳工藝操作簡單,鍍液穩(wěn)定,所得鎳鍍層光亮平整、延展性好,可以90°折彎而不出現(xiàn)裂紋,成品合格率達98.5%以上。
[Abstract]:As the transition layer between copper matrix and silver composite layer, nickel coating must meet certain requirements for plasticity, tensile strength, toughness and ductility. The production process of electric contact element is introduced, and the nickel plating process suitable for electric contact element is discussed. The better nickel plating process conditions are obtained. The optimum nickel plating process conditions are obtained as follows: (1) Ni so 4 7H 2O 250 g / L, Ni Cl 2 6H 2O 2530 g / L, H3BO3 30% 40 g / L, mg so 4 2050 g / L, C 12 H 25SO 4 Na 0.01 0. 01 g / L P / L H 34, temperature 4050 擄C, current density 2 02.5 ADP / m 2. The nickel plating process has the advantages of simple operation, stable bath, bright and smooth nickel coating, good ductility, 90 擄bending without crack, and the qualified rate of finished product is above 98.5%.
【作者單位】： 柳州市建益電工材料有限責任公司技術部;
【分類號】：TQ153.12

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本文編號：2014954