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交替氧化工藝參數(shù)對銀氧化錫內(nèi)氧化后組織的影響

發(fā)布時間:2017-11-25 13:00

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【摘要】:AgSn合金內(nèi)氧化后表層往往出現(xiàn)氧化物聚集層,導(dǎo)致成品中出現(xiàn)大量氧化物聚集,嚴(yán)重影響產(chǎn)品質(zhì)量。針對上述問題,采用氧化-還原-氧化的交替氧化方法,即在通常內(nèi)氧化工藝過程中增加還原-氧化步驟,先將氧化后絲材表面氧化層還原,然后再次氧化以獲得均勻的組織。還原過程起關(guān)鍵作用,考察了不同還原溫度(650℃、700℃、750℃)、不同還原時間(0.5h、1h、3h、5h)對銀氧化錫內(nèi)氧化后顯微組織的影響,并優(yōu)選了一種工藝進(jìn)行后續(xù)加工。研究得出:表面還原層厚度隨著還原溫度的升高、時間的延長逐漸增加;由于晶界上原子排列較晶粒內(nèi)部疏松,存在較多空位、位錯等缺陷,導(dǎo)致晶界成為氫氣快速擴(kuò)散的通道,還原優(yōu)先在晶界位置發(fā)生;后續(xù)加工后的絲材無明顯氧化物聚集現(xiàn)象。
【作者單位】: 福達(dá)合金材料股份有限公司;
【基金】:溫州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)科技計劃項目(KK201427)
【分類號】:TM501.3
【正文快照】: AgSnO2是電接觸材料領(lǐng)域應(yīng)用最為廣泛的環(huán)保材料之一[1,2]。制備AgSnO2材料的方法有混粉法、粉體預(yù)氧化法、內(nèi)氧化法、化學(xué)法等,其中內(nèi)氧化法是最常用的方法之一,采用該方法制備的AgSnO2材料具有材料組織致密、均勻及抗材料轉(zhuǎn)移性能好等一系列優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于汽車?yán)^電器、家

【相似文獻(xiàn)】

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1 梁宇青;;熱處理對銀系合金電接點(diǎn)特性的影響[J];電工合金通訊;1973年02期

2 林陽明;宋克興;郜建新;國秀花;;內(nèi)氧化法制備Al_2O_3/Cu復(fù)合材料的性能研究[J];電工材料;2005年04期

3 梁宇青;;電觸頭材料(Ag—CdO系)[J];電工合金通訊;1973年01期

4 黃大鵬,賈成廠,曲選輝;銀基氧化物電觸點(diǎn)材料的發(fā)展與現(xiàn)狀[J];電工材料;2003年04期

5 ;[J];;年期

,

本文編號:1226076

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