Gd靶激光等離子體6.7nm光源的實(shí)驗(yàn)研究
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【摘要】:本文對(duì)Gd靶激光等離子體極紫外光源進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究,在6.7 nm附近獲得了較強(qiáng)的輻射,并研究了6.7nm附近光輻射隨打靶激光功率密度變化的規(guī)律以及收集角度對(duì)極紫外輻射的影響.同時(shí),對(duì)平面Gd靶激光等離子光源的離子碎屑角分布進(jìn)行了測(cè)量,發(fā)現(xiàn)從靶面的法線到沿著靶面平行方向上Gd離子數(shù)量依次減少.進(jìn)一步研究結(jié)果表明采用0.9 T外加磁場(chǎng)的條件下可取得較好的Gd離子碎屑阻擋效果.
【作者單位】: 長(zhǎng)春理工大學(xué)理學(xué)院;
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號(hào):61178022) 長(zhǎng)春市科技局項(xiàng)目(批準(zhǔn)號(hào):14KP007)資助的課題~~
【分類號(hào)】:TM923.01
【正文快照】: 1引言隨著13.5 nm極紫外光刻研發(fā)工作進(jìn)入尾聲[1 4],世界眾多的研究機(jī)構(gòu)又開始了新一輪的更短工作波長(zhǎng)、分辨率可優(yōu)于8 nm的下一代極紫外光刻的研究工作.在這方面,當(dāng)前采用工作波長(zhǎng)為6.7 nm極紫外光刻光源為該領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)[5].類似于13.5 nm極紫外光刻的情形[6],亞-10 nm極
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,本文編號(hào):1145485
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