本文關(guān)鍵詞：基于永磁直線同步電機(jī)的光刻機(jī)掩模臺(tái)魯棒自適應(yīng)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)控制，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：針對(duì)光刻機(jī)掩模臺(tái)宏動(dòng)永磁直線同步電機(jī)(PMLSM)提出一種魯棒自適應(yīng)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)軌跡跟蹤補(bǔ)償控制策略。該策略的主要特點(diǎn)是采用徑向基函數(shù)(RBF)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)實(shí)時(shí)在線進(jìn)行模型參數(shù)不確定性和各種外界非線性擾動(dòng)的估計(jì)。為了驗(yàn)證策略的效果,建立基于參數(shù)不確定性和外界非線性擾動(dòng)的掩模臺(tái)宏動(dòng)PMLSM模型,并針對(duì)此模型進(jìn)行控制策略的規(guī)劃、推導(dǎo)和穩(wěn)定性理論分析,分析結(jié)果說(shuō)明該策略可以保證位置和速度跟蹤誤差的收斂性。通過(guò)在光刻機(jī)掩模臺(tái)上進(jìn)行的五階S曲線跟蹤控制實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了此控制策略的實(shí)際控制效果,實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示跟蹤準(zhǔn)確度達(dá)到了滿意的效果。由于此控制策略的最大優(yōu)點(diǎn)是不需要對(duì)實(shí)際物理系統(tǒng)參數(shù)和難于測(cè)量的外界不確定性擾動(dòng)做精準(zhǔn)的建模,所以非常適合應(yīng)用在超精密運(yùn)動(dòng)控制領(lǐng)域。
【作者單位】： 黑龍江大學(xué);哈爾濱工業(yè)大學(xué);
【關(guān)鍵詞】： 永磁直線同步電機(jī) 光刻機(jī)掩模臺(tái) 魯棒自適應(yīng) 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò) 運(yùn)動(dòng)控制
【基金】：國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(973計(jì)劃)(10007.07-LB7) 國(guó)家科技重大專項(xiàng)(2009ZX02207)資助項(xiàng)目
【分類號(hào)】：TM341
【正文快照】： 0引言光刻機(jī)是一種大規(guī)模制造集成電路的設(shè)備,其發(fā)展水平直接決定半導(dǎo)體產(chǎn)品的集成度。近年來(lái),隨著半導(dǎo)體微細(xì)加工技術(shù)的迅猛發(fā)展,光刻技術(shù)及光刻設(shè)備的制造和研究成為當(dāng)今半導(dǎo)體制造行業(yè)的焦點(diǎn)。由于光刻機(jī)集中了機(jī)械、控制、電機(jī)、光學(xué)、測(cè)量、化學(xué)和材料等學(xué)科的頂尖技術(shù)和

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1 蔣薇;趙立新;;光刻機(jī)外型設(shè)計(jì)新理念[J];現(xiàn)代科學(xué)儀器;2013年01期

2 王佛性 ,白駒珩;自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的設(shè)計(jì)[J];華中工學(xué)院學(xué)報(bào);1979年01期

3 何雅全;;可以實(shí)現(xiàn)0.08μm對(duì)準(zhǔn)精度的光刻機(jī)[J];航空精密制造技術(shù);1992年06期

4 ;國(guó)內(nèi)首臺(tái)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)光刻機(jī)將在合肥面世[J];中國(guó).城鄉(xiāng)橋;2007年11期

5 潘海鴻;李小清;嚴(yán)思杰;陳琳;周云飛;;步進(jìn)掃描光刻機(jī)硅片臺(tái)連續(xù)掃描時(shí)間優(yōu)化算法[J];機(jī)械工程學(xué)報(bào);2008年10期

6 彭yN帆;袁波;曹向群;;光刻機(jī)技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)[J];光學(xué)儀器;2010年04期

7 孫長(zhǎng)明;;GCA東山再超[J];光學(xué)儀器;1989年04期

8 楊宗輝,陳正國(guó);同步輻射X射線光刻機(jī)中電機(jī)發(fā)熱對(duì)進(jìn)給工件臺(tái)定位測(cè)量的影響[J];光電工程;1992年05期

9 李連進(jìn);光刻機(jī)鏡頭的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與裝配[J];天津理工學(xué)院學(xué)報(bào);2004年01期

10 ;無(wú)掩膜光刻機(jī)[J];光學(xué)儀器;2008年01期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前5條

1 何峰;吳志明;王軍;袁凱;蔣亞?wèn)|;;襯底材料對(duì)光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)精度的影響研究[A];2009年先進(jìn)光學(xué)技術(shù)及其應(yīng)用研討會(huì)論文集（上冊(cè)）[C];2009年

2 閆觀勇;王向朝;楊濟(jì)碩;徐東波;;光刻機(jī)空間像的工件臺(tái)坐標(biāo)的校正方法[A];第十四屆全國(guó)光學(xué)測(cè)試學(xué)術(shù)討論會(huì)論文（摘要集）[C];2012年

3 滕偉;柳亦兵;;掃描光刻機(jī)硅片臺(tái)五自由度激光測(cè)量模型[A];第二十九屆中國(guó)控制會(huì)議論文集[C];2010年

4 王向朝;;光刻機(jī)投影物鏡成像質(zhì)量原位檢測(cè)技術(shù)的研究[A];第十一屆全國(guó)光學(xué)測(cè)試學(xué)術(shù)討論會(huì)論文（摘要集）[C];2006年

5 馬明英9;王向朝;王帆;;一種新的光刻機(jī)投影物鏡垂軸像質(zhì)參數(shù)原位檢測(cè)技術(shù)[A];第十一屆全國(guó)光學(xué)測(cè)試學(xué)術(shù)討論會(huì)論文（摘要集）[C];2006年

中國(guó)重要報(bào)紙全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 記者 李鑫 北京;國(guó)內(nèi)首臺(tái)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)光刻機(jī)將在合肥面世[N];電子資訊時(shí)報(bào);2007年

2 潘峰;安徽：國(guó)產(chǎn)首臺(tái)直寫式光刻機(jī)問(wèn)世[N];中國(guó)電子報(bào);2008年

3 朱磊;我國(guó)首臺(tái)精密光刻機(jī)問(wèn)世[N];人民日?qǐng)?bào);2008年

4 通訊員 龐輝揚(yáng);中山將擬量產(chǎn)直寫光刻機(jī)[N];中山日?qǐng)?bào);2012年

5 本報(bào)記者 郝玲邋張驊 通訊員 張和允;洋技術(shù)能否打造中國(guó)“芯”[N];中國(guó)企業(yè)報(bào);2007年

6 哲一;芯碩半導(dǎo)體：亞微米級(jí)光刻機(jī)“合肥造”[N];中國(guó)電子報(bào);2008年

7 本報(bào)記者 李治國(guó);“智造”光刻機(jī) 十年磨一劍[N];經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào);2012年

8 李陳續(xù);國(guó)產(chǎn)首臺(tái)亞微米無(wú)掩膜光刻機(jī)通過(guò)鑒定[N];光明日?qǐng)?bào);2008年

9 本報(bào)記者 王春 實(shí)習(xí)生 肖浩宇;光陰十年刻下深深的腳印[N];科技日?qǐng)?bào);2012年

10 記者 戴麗昕;十年一劍 中國(guó)“智造”追趕超越[N];上�？萍紙�(bào);2012年

中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條

1 劉巍;基于靈敏度解析函數(shù)的光刻機(jī)波像差檢測(cè)理論與方法研究[D];華中科技大學(xué);2011年

2 李金龍;ArF浸沒(méi)光刻雙工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)模型研究[D];中國(guó)科學(xué)院研究生院（光電技術(shù)研究所）;2013年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 劉法志;光刻機(jī)換臺(tái)過(guò)程控制算法研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2015年

2 顏飛;光刻機(jī)微動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)數(shù)據(jù)處理方法研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2015年

3 鄒鵬程;光刻機(jī)粗精耦合及同步控制算法研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

4 項(xiàng)程;光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)數(shù)學(xué)模型的建立與驗(yàn)證[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2012年

5 劉旗;步進(jìn)掃描光刻機(jī)工件臺(tái)同步誤差校正方法及控制[D];中國(guó)科學(xué)院研究生院（光電技術(shù)研究所）;2013年

6 李聰;光刻機(jī)雙工件臺(tái)軌跡規(guī)劃算法研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2013年

7 閆華星;雙工件臺(tái)光刻機(jī)虛擬現(xiàn)實(shí)三維仿真平臺(tái)設(shè)計(jì)[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2012年

8 謝德東;光刻機(jī)結(jié)構(gòu)動(dòng)力學(xué)建模與仿真[D];華中科技大學(xué);2007年

9 周沛;光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)功率放大控制卡的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)[D];華中科技大學(xué);2011年

10 曾毅;光刻機(jī)精密水溫控制系統(tǒng)的熱結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)[D];電子科技大學(xué);2012年

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本文編號(hào)：420282