發(fā)布時間：2023-05-21 18:30

　　隨著社會的不斷進(jìn)步,人們對產(chǎn)品的質(zhì)量要求越來越高。統(tǒng)計過程控制(Statistical Process Control,SPC)技術(shù)在保證產(chǎn)品高質(zhì)量生產(chǎn)過程中發(fā)揮著重要的作用�？刂茍D作為SPC的重要工具之一,被廣泛用在各類產(chǎn)品生產(chǎn)過程的質(zhì)量控制中。借助控制圖,我們能夠及時發(fā)現(xiàn)過程偏移,并采取有效措施,以保證生產(chǎn)過程始終處于統(tǒng)計受控狀態(tài)。隨著自動化與傳感器技術(shù)的迅速發(fā)展,高速率自動化采集數(shù)據(jù)已成為可能。但是,由于數(shù)據(jù)采集頻率高、時間間隔短,數(shù)據(jù)極易產(chǎn)生自相關(guān)現(xiàn)象。自相關(guān)過程違背了傳統(tǒng)控制圖所要求的觀測值相互獨(dú)立的基本條件,故不能用傳統(tǒng)控制圖直接監(jiān)控自相關(guān)過程�；谧曰貧w模型的殘差控制圖是解決自相關(guān)過程監(jiān)控的一種較好的方法。殘差控制圖的監(jiān)控統(tǒng)計量為控制圖監(jiān)控自回歸模型得到的預(yù)測值與實際值的殘差,因而,自回歸模型的構(gòu)建是非常重要的環(huán)節(jié)�，F(xiàn)有研究大多假設(shè)數(shù)據(jù)呈一階自相關(guān),而對多階自相關(guān)數(shù)據(jù)考慮甚少,但多階自相關(guān)數(shù)據(jù)在現(xiàn)實中是存在的。針多階自相關(guān)數(shù)據(jù),構(gòu)建恰當(dāng)?shù)淖曰貧w模型需要豐富的實踐經(jīng)驗,尤其在自回歸階數(shù)的判斷上。假設(shè)數(shù)據(jù)呈p階自相關(guān),不同階數(shù)的自回歸模型如何影響殘差控制圖的性能,目前是不清楚...

【文章頁數(shù)】：72 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【文章目錄】：
致謝
摘要
abstract
第一章 緒論
    1.1 研究背景和意義
        1.1.1 研究背景
        1.1.2 研究意義
    1.2 自相關(guān)過程控制圖國內(nèi)外研究現(xiàn)狀
        1.2.1 調(diào)限控制圖
        1.2.2 殘差控制圖
        1.2.3 研究評述
    1.3 本文研究內(nèi)容與創(chuàng)新
    1.4 本文研究方法與技術(shù)路線圖
        1.4.1 本文研究方法
        1.4.2 本文技術(shù)路線圖
第二章 多階自回歸模型的建立與殘差控制圖理論
    2.1 自相關(guān)過程以及相關(guān)函數(shù)
    2.2 自相關(guān)現(xiàn)象對常規(guī)控制圖的影響
    2.3 多階自回歸模型的建立
        2.3.1 p階自回歸模型
        2.3.2 一階自回歸模型
        2.3.3 不同自回歸模型預(yù)測下的殘差序列
    2.4 殘差控制圖理論
        2.4.1 殘差X-bar單值控制圖
        2.4.2 殘差CUSUM控制圖
    2.5 平均運(yùn)行長度
        2.5.1 X-bar單值控制圖
        2.5.2 CUSUM控制圖
第三章 不同自回歸模型對殘差控制圖性能的影響分析
    3.1 實驗設(shè)計
        3.1.1 實驗一:二階自相關(guān)數(shù)據(jù)擬合
        3.1.2 實驗二:三階自相關(guān)數(shù)據(jù)擬合
    3.2 不同階數(shù)自回歸模型擬合的殘差分析
        3.2.1 二階自相關(guān)數(shù)據(jù)
        3.2.2 三階自相關(guān)數(shù)據(jù)
    3.3 不同階數(shù)自回歸模型對殘差X-bar單值控制圖性能的影響分析
        3.3.1 平均運(yùn)行鏈長
        3.3.2 失控運(yùn)行鏈長標(biāo)準(zhǔn)差
    3.4 不同自回歸模型對殘差CUSUM控制圖性能的影響分析
        3.4.1 平均運(yùn)行鏈長
        3.4.2 失控運(yùn)行鏈長標(biāo)準(zhǔn)差
    3.5 本章小結(jié)
第四章 企業(yè)應(yīng)用分析
    4.1 樣本大小對殘差控制圖性能的影響分析
        4.1.1 不同樣本大小對殘差X-bar單值控制圖的影響
        4.1.2 不同樣本大小對殘差CUSUM控制圖的影響
    4.2 樣本量足夠大的情況下殘差控制圖性能的對比分析
        4.2.1 基于AR(1)與AR(2)的殘差X-bar單值控制圖性能的比較分析
        4.2.2 基于AR(1)與AR(2)的殘差CUSUM控制圖性能的比較分析
        4.2.3 殘差X-bar單值和殘差CUSUM控制圖性能的比較分析
    4.3 本章小結(jié)
第五章 結(jié)論與展望
    5.1 結(jié)論
    5.2 不足與展望
        5.2.1 不足
        5.2.2 展望
攻讀學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文成果
參考文獻(xiàn)



本文編號：3821227