本實(shí)驗(yàn)以電沉積技術(shù)作為主要的技術(shù)手段,在鋼片表面制備了Ni-SiC納米復(fù)合鍍層、在鋁片表面制備了Ni-P-PTFE納米復(fù)合鍍層、Ni-P-CNTs納米復(fù)合鍍層和Ni-P-MoS₂納米復(fù)合鍍層,并且對(duì)它們的結(jié)構(gòu)、表面形貌以及摩擦學(xué)性能進(jìn)行了深入的研究,得到如下結(jié)論:（1）利用磁性輔助脈沖電沉積技術(shù)制備N(xiāo)i-SiC納米復(fù)合鍍層,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明納米復(fù)合鍍層具有良好的摩擦學(xué)性能和力學(xué)性能。（2）利用電沉積法制備摻雜聚四氟乙烯（PTFE）、碳納米管（CNTs）以及二硫化鉬（MoS₂）固體潤(rùn)滑顆粒的鋁基Ni-P復(fù)合鍍層,在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中對(duì)固體潤(rùn)滑顆粒質(zhì)量濃度、電流密度、溶液pH和鍍液溫度進(jìn)行調(diào)控,得到最佳制備條件。利用SEM、EDS、AFM、XRD等表征手段對(duì)制備得到的納米復(fù)合鍍層的結(jié)構(gòu)、成分和表面形貌進(jìn)行測(cè)試,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明固體潤(rùn)滑顆粒的加入明顯的改變了Ni-P復(fù)合鍍層表面形貌,使得Ni-P-PTFE、Ni-P-CNTs、Ni-P-MoS₂納米復(fù)合鍍層均表現(xiàn)出良好的摩擦學(xué)性能。其中Ni-P-CNTs、Ni-P-MoS₂

【文章來(lái)源】：西北民族大學(xué)甘肅省

【文章頁(yè)數(shù)】：68 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

石墨與MoS2晶體結(jié)構(gòu)

圖 2.1 電沉積制備過(guò)程圖示Fig.2.1 Schematic diagram of electrodeposition process表 2.1 化學(xué)成分及制備條件Tab 2.1 Chemical composition and preparation conditions

圖 2.2 Ni 鍍層和 Ni-SiC 納米鍍層的 SEM 形貌（a）Ni 鍍層（b）0.2 T-Ni-SiC 納米鍍層（c）0.4 T-Ni-SiC 納米鍍層 （d）0.6 T-Ni-SiC 納米鍍層Fig 2.2 SEM morphology of Ni coating and Ni-SiC nano-coating (a) Ni coating (b)0.2 T-Ni-SiCnano-coating (c) 0.4 T-Ni-SiC nano-coating (d) 0.6 T-Ni-SiC nano-coating圖2.2顯示了通過(guò)MAPED方法獲得的純Ni鍍層和Ni-SiC納米鍍層的SEM形貌�？梢钥闯觯� Ni 鍍層（圖 2.2a）晶粒尺寸明顯比 Ni-SiC 納米鍍層的晶粒尺寸大。圖b~d 清楚地表明 SiC 納米顆粒成功地嵌入 Ni-SiC 納米鍍層中。隨著磁場(chǎng)強(qiáng)度從 0.2 T上升到 0.6 T，鎳晶粒尺寸逐漸減小。在 0.2 T 的磁場(chǎng)強(qiáng)度下沉積的 NS-1 鍍層中出現(xiàn)相對(duì)增大的微觀結(jié)構(gòu)（圖 2.2b），而在 0.4 T 時(shí)獲得的 NS-2 鍍層結(jié)構(gòu)較 0.2 T 下較小（圖 2.2c）。此外，在 0.6 T 下生產(chǎn)的 NS-3 鍍層具有分布均勻和致密細(xì)鎳晶粒和 SiC納米顆粒（圖 2.2d）。

【參考文獻(xiàn)】：
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碩士論文
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本文編號(hào)：3626546