本文選題：電解銅箔 + 毛刺缺陷　； 參考：《電鍍與涂飾》2017年20期

【摘要】：電解銅箔生產(chǎn)過程中易產(chǎn)生毛刺缺陷。先分析了毛刺的微觀形貌和成分,再結(jié)合多年的生產(chǎn)實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),從電解液雜質(zhì)和氯離子含量,溶銅罐中H_2SO_4和Cu~(2+)含量,電流密度,銅箔厚度等方面分析了毛刺產(chǎn)生的原因,并給出了相應(yīng)的解決措施。
[Abstract]:It is easy to produce burr defects in the production process of electrolytic copper foil. First, the micromorphology and composition of the burr are analyzed, and combined with the experience of many years of production practice, the causes of the burr are analyzed from the contents of electrolyte impurity and chloride ion, H_2SO_4 and Cu~ (2+) content, current density and copper foil thickness in the copper soluble tank, and the corresponding solutions are given. Shi.

【作者單位】： 靈寶華鑫銅箔有限責(zé)任公司;
【分類號(hào)】：TM24

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本文編號(hào)：1850677