本文關(guān)鍵詞：TiN涂層的制備及其性能研究

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【摘要】：本文通過射頻磁控濺射沉積的方法,采用Ti N靶材在基體上制備了氮化鈦涂層,并利用掃描電鏡、能譜分析儀、劃痕儀、超景深顯微鏡,對制備的氮化鈦涂層的宏觀、微觀形貌及力學性能進行了檢測。研究表明,基體表面形成界面結(jié)合良好,鍍層十分致密,無孔隙和裂紋等缺陷,實驗最佳濺射功率為97.5W。
【作者單位】： 新鄉(xiāng)學院機電工程學院;
【關(guān)鍵詞】： TiN涂層 磁控濺射 微觀組織
【基金】：河南省高等學校青年骨干教師培養(yǎng)計劃(2013GGJS-221)
【分類號】：TB306
【正文快照】： 法拉第在1853年做氣體放電實驗時,首次發(fā)現(xiàn)有金屬沉積在放電管玻璃內(nèi)壁上的現(xiàn)象[1]。磁控濺射采用在靶面上加跑道磁場來控制電子的運動,延長其在靶面周圍的行程,以提高等離子體的密度,是物理氣相沉積(PVD)的一種。因此,濺射鍍膜的速率得到了極大提升[2]。近年來,磁控濺射技術(shù)

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本文編號：953422