靶材刻蝕對磁控濺射制備ZnO:Al薄膜性能空間分布的影響
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【摘要】:采用未經(jīng)使用和經(jīng)長時間使用后的新舊摻鋁氧化鋅(AZO)圓形平面陶瓷靶,直流磁控濺射制備AZO薄膜,基片分別正對靶材水平放置和立在屏蔽罩旁豎直放置,并通過X射線衍射儀、霍爾效應(yīng)測試系統(tǒng)、光學橢偏儀等設(shè)備分析其結(jié)構(gòu)和光電性能,系統(tǒng)地研究靶材刻蝕對磁控濺射制備AZO薄膜性能空間分布的影響。研究表明,氧負離子是造成靶材刻蝕導(dǎo)致薄膜性能空間差異的主要原因,對于水平放置徑向分布的AZO薄膜,采用新靶制備時,靶材刻蝕位置處,氧負離子對薄膜損傷作用最大,(002)晶面間距增大,電學性能最差,而在正對靶中心及其他位置處電學性能較佳,隨著靶材刻蝕的加深,氧負離子對正對靶中心位置處的薄膜損傷作用最大,結(jié)晶性能和電學性能最差;而對于豎直放置縱向分布的AZO薄膜,由于受氧負離子作用弱,采用新舊靶制備的薄膜性能分布規(guī)律相似,薄膜電學和結(jié)晶性能較水平放置均有所提升,某些位置處電阻率可達(7~8)×10~(-4)Ω·cm,但可見光透過率有所下降。
【作者單位】: 浮法玻璃新技術(shù)國家重點實驗室;蚌埠玻璃工業(yè)設(shè)計研究院;
【關(guān)鍵詞】: 靶材刻蝕 AZO薄膜 氧負離子 空間分布
【基金】:安徽省科技攻關(guān)計劃項目(1501021046)
【分類號】:TB383.2
【正文快照】: 被認為是氧化錫摻銦(ITO)薄膜最具前景的替代品,可廣泛應(yīng)用在薄膜太陽能電池、柔性電子設(shè)備、節(jié)能玻璃等領(lǐng)域[1-6]。在AZO薄膜的眾多制備方法中,磁控濺射具有成本低和成膜致密等優(yōu)點,然而對氧化物薄膜制備而言,氧負離子作為濺射產(chǎn)物之一,不得不考慮其對薄膜生長過程以及性能的
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本文編號:501018
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