本文關(guān)鍵詞：靶材刻蝕對(duì)磁控濺射制備ZnO:Al薄膜性能空間分布的影響，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：采用未經(jīng)使用和經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間使用后的新舊摻鋁氧化鋅(AZO)圓形平面陶瓷靶,直流磁控濺射制備AZO薄膜,基片分別正對(duì)靶材水平放置和立在屏蔽罩旁豎直放置,并通過X射線衍射儀、霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)、光學(xué)橢偏儀等設(shè)備分析其結(jié)構(gòu)和光電性能,系統(tǒng)地研究靶材刻蝕對(duì)磁控濺射制備AZO薄膜性能空間分布的影響。研究表明,氧負(fù)離子是造成靶材刻蝕導(dǎo)致薄膜性能空間差異的主要原因,對(duì)于水平放置徑向分布的AZO薄膜,采用新靶制備時(shí),靶材刻蝕位置處,氧負(fù)離子對(duì)薄膜損傷作用最大,(002)晶面間距增大,電學(xué)性能最差,而在正對(duì)靶中心及其他位置處電學(xué)性能較佳,隨著靶材刻蝕的加深,氧負(fù)離子對(duì)正對(duì)靶中心位置處的薄膜損傷作用最大,結(jié)晶性能和電學(xué)性能最差;而對(duì)于豎直放置縱向分布的AZO薄膜,由于受氧負(fù)離子作用弱,采用新舊靶制備的薄膜性能分布規(guī)律相似,薄膜電學(xué)和結(jié)晶性能較水平放置均有所提升,某些位置處電阻率可達(dá)(7~8)×10~(-4)Ω·cm,但可見光透過率有所下降。
【作者單位】： 浮法玻璃新技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;蚌埠玻璃工業(yè)設(shè)計(jì)研究院;
【關(guān)鍵詞】： 靶材刻蝕 AZO薄膜 氧負(fù)離子 空間分布
【基金】：安徽省科技攻關(guān)計(jì)劃項(xiàng)目(1501021046)
【分類號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： 被認(rèn)為是氧化錫摻銦(ITO)薄膜最具前景的替代品,可廣泛應(yīng)用在薄膜太陽能電池、柔性電子設(shè)備、節(jié)能玻璃等領(lǐng)域[1-6]。在AZO薄膜的眾多制備方法中,磁控濺射具有成本低和成膜致密等優(yōu)點(diǎn),然而對(duì)氧化物薄膜制備而言,氧負(fù)離子作為濺射產(chǎn)物之一,不得不考慮其對(duì)薄膜生長(zhǎng)過程以及性能的

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中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 郭明,王鳳杰;調(diào)整磁場(chǎng)強(qiáng)度分布 提高靶材利用率[J];玻璃;2003年03期

2 倪佳苗;程娟;;陶瓷靶材的制備及性能表征[J];湖北第二師范學(xué)院學(xué)報(bào);2012年02期

3 羅俊鋒;;粉末冶金靶材的制備與應(yīng)用[J];中國(guó)金屬通報(bào);2011年31期

4 吳智華,蔣丹宇,張騁;陶瓷濺射靶材的發(fā)展與應(yīng)用[J];陶瓷科學(xué)與藝術(shù);2004年01期

5 韓雪,夏慧,王燕,施昌勇;記錄媒體用磁控濺射靶材[J];稀有金屬;1997年05期

6 郅富國(guó);王煒;;電感耦合等離子體發(fā)射光譜發(fā)測(cè)定金砷靶材中砷量[J];分析儀器;2014年04期

7 ;濟(jì)源豫金靶材科技有限公司[J];中國(guó)有色金屬;2014年07期

8 李玲玲;;純度為6N的鎢靶材[J];中國(guó)鎢業(yè);1996年05期

9 岳明,劉衛(wèi)強(qiáng),張東濤,劉燕琴,張久興;放電等離子燒結(jié)技術(shù)制備復(fù)合梯度靶材的研究[J];功能材料與器件學(xué)報(bào);2004年03期

10 扈百直,李風(fēng)光,鐘景明;硫化鋅摻雜二氧化硅靶材致密化研究[J];稀有金屬快報(bào);2005年09期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 夏慧;韓雪;吳麗君;;靶材及其應(yīng)用[A];中國(guó)有色金屬學(xué)會(huì)第三屆學(xué)術(shù)會(huì)議論文集——科學(xué)技術(shù)論文部分[C];1997年

2 江軒;;半導(dǎo)體行業(yè)用靶材及蒸發(fā)源材料[A];集成電路配套材料研討會(huì)及參展資料匯編[C];2004年

3 郭明;王秀麗;;淺析靶材分子在玻璃表面的沉積[A];TFC'07全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2007年

4 夏慧;;真空電子材料靶材的應(yīng)用[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2008年學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2008年

5 邢朋飛;邢偉;王政紅;張秀勤;薛建強(qiáng);;ITO靶材的微觀結(jié)構(gòu)分析[A];2008全國(guó)功能材料科技與產(chǎn)業(yè)高層論壇論文集[C];2008年

6 馬曉波;鐘景明;孫本雙;陳煥銘;王東新;;高密度ITO靶材的成形工藝及理論分析[A];第七屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（第2分冊(cè)）[C];2010年

7 李繼承;陳小偉;;剛性彈侵徹不同靶材的等效分析[A];第一屆全國(guó)工程安全與防護(hù)學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2008年

8 吳迪;宮野;劉金遠(yuǎn);王曉鋼;劉悅;馬騰才;;強(qiáng)流脈沖離子束模型及輻照靶材能量沉積的模擬研究[A];TFC'05全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2005年

9 李音波;李衛(wèi)華;閆琳;余前春;韓志偉;;ITO靶材的研究現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)[A];第五屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集Ⅲ[C];2004年

10 肖華;王華;任鳴放;許積文;;燒結(jié)工藝對(duì)ZAO靶材微觀結(jié)構(gòu)和性能研究[A];2006年全國(guó)功能材料學(xué)術(shù)年會(huì)專輯[C];2006年

中國(guó)重要報(bào)紙全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 市報(bào)道組　龔寧　葉初江;第一塊國(guó)產(chǎn)靶材在余姚下線[N];浙江日?qǐng)?bào);2005年

2 熊曉東;國(guó)產(chǎn)靶材希望獲得更多驗(yàn)證機(jī)會(huì)[N];中國(guó)電子報(bào);2011年

3 經(jīng)濟(jì)視點(diǎn)報(bào)記者 吳春波;靶材行業(yè)：豫光集團(tuán)的下一個(gè)奶酪？[N];經(jīng)濟(jì)視點(diǎn)報(bào);2011年

4 王君毅/DigiTimes;銦礦取得不易材料業(yè)者積極另尋替代方案[N];電子資訊時(shí)報(bào);2005年

5 時(shí)報(bào)記者 黃薇;閩企打破高端陶瓷靶材進(jìn)口局面[N];福建工商時(shí)報(bào);2012年

6 李元;豫光集團(tuán)引“鳳”打造高科技項(xiàng)目[N];中國(guó)有色金屬報(bào);2011年

7 王君毅/DigiTimes;面板持續(xù)擴(kuò)產(chǎn) ITO靶材供貨日趨緊繃[N];電子資訊時(shí)報(bào);2005年

8 中色(寧夏)東方集團(tuán)有限公司 張紅梅　孫本雙 劉孝寧;ITO靶材向大尺寸高密度方向發(fā)展[N];中國(guó)電子報(bào);2009年

9 大連交通大學(xué)光電材料與器件研究所所長(zhǎng) 柴衛(wèi)平;打破技術(shù)壁壘 加快ITO靶材產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程[N];中國(guó)電子報(bào);2009年

10 楊曉嬋;日公司開發(fā)出氧化鋅系靶材[N];中國(guó)有色金屬報(bào);2005年

中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前3條

1 李莉;脈沖激光燒蝕及靶材光學(xué)性質(zhì)的研究[D];華中科技大學(xué);2007年

2 李其仲;氧化錫陶瓷靶材的制備及其性能研究[D];武漢理工大學(xué);2011年

3 李斌;碳材料的輻照及嬗變靶材的制造[D];合肥工業(yè)大學(xué);2013年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 曹子宇;Au-B、Ag-B靶材制備及致密化過程研究[D];北京有色金屬研究總院;2015年

2 曹俊;SrAl_2O_4:Eu~(2+),Dy~(3+)陶瓷靶材的制備及其薄膜制備工藝的探索[D];江西理工大學(xué);2015年

3 李亞寧;鐵酸鉍納米顆粒組裝的靶材及摻雜改性[D];內(nèi)蒙古大學(xué);2016年

4 劉麗杰;氧化鋅陶瓷靶材的制備[D];河北工業(yè)大學(xué);2008年

5 劉磊;溶膠—凝膠法制備摻鋁氧化鋅靶材研究[D];西華大學(xué);2011年

6 李靜;電子束蒸發(fā)用ZAO靶材的制備[D];河北工業(yè)大學(xué);2009年

7 白雪;AZO靶材熱壓致密化過程研究[D];北京有色金屬研究總院;2011年

8 陳明;磁控濺射過程中濺射產(chǎn)額及靶材刻蝕的模擬計(jì)算研究[D];合肥工業(yè)大學(xué);2007年

9 黃振娟;ZnS-SiO_2陶瓷靶材黃點(diǎn)缺陷的研究[D];西南交通大學(xué);2006年

10 李亞靜;銦錫氧化物靶材的制備[D];北京化工大學(xué);2007年

  本文關(guān)鍵詞：靶材刻蝕對(duì)磁控濺射制備ZnO:Al薄膜性能空間分布的影響，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號(hào)：501017