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C/SiC復(fù)合材料輕型反射鏡光學(xué)改性涂層技術(shù)研究進(jìn)展

發(fā)布時(shí)間:2025-05-01 09:12
   輕型反射鏡在空間光學(xué)系統(tǒng)中發(fā)揮著非常關(guān)鍵的作用,現(xiàn)在已發(fā)展到第四代C/SiC復(fù)合材料。C/SiC反射鏡通常采用坯體+涂層的結(jié)構(gòu)形式來滿足輕量化和高分辨率的雙重要求。因此,在反射鏡制備過程中,涂層制備技術(shù)已成為制備反射鏡材料的關(guān)鍵技術(shù)之一。目前涂層制備技術(shù)主要有CVD-SiC涂層技術(shù)、漿料預(yù)涂層Si/SiC涂層技術(shù)等。文章介紹了第四代C/SiC反射鏡光學(xué)改性涂層的設(shè)計(jì)、制備,并介紹了近些年國內(nèi)外的研究進(jìn)展。

【文章頁數(shù)】:6 頁

【文章目錄】:
1 引言
2 C/Si C復(fù)合材料光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
    2.1 C/Si C反射鏡表面致密層設(shè)計(jì)
    2.2 C/Si C反射鏡梯度過渡層的設(shè)計(jì)
3 C/Si C反射鏡光學(xué)涂層制備技術(shù)
    3.1 熱壓玻璃涂層
    3.2 化學(xué)氣相沉積法制備Si C涂層
    3.3 物理氣相沉積法制備Si單質(zhì)涂層
    3.4 漿料預(yù)涂層法制備Si/Si C涂層
4 C/Si C反射鏡光學(xué)涂層技術(shù)國內(nèi)外研究進(jìn)展
    4.1 CVD-Si C涂層研究進(jìn)展
    4.2 PVD-Si涂層研究進(jìn)展
    4.3 漿料法Si/Si C涂層研究進(jìn)展
5 展望



本文編號(hào):4042025

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