現(xiàn)代光學(xué)中,如何實(shí)現(xiàn)在納米尺度上對(duì)光的調(diào)控是人們長(zhǎng)期研究的問(wèn)題,這對(duì)于能源和信息等領(lǐng)域的發(fā)展有著十分重要的研究意義。隨著理論研究的深入和微納加工技術(shù)的發(fā)展,亞波長(zhǎng)的超材料能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)入射光相位、偏振、振幅的有效調(diào)控。盡管能夠借助于先進(jìn)的納米加工工藝(如電子束刻蝕,聚焦離子束刻蝕等)實(shí)現(xiàn)器件制備,但是對(duì)于結(jié)構(gòu)復(fù)雜的器件而言,上述制備手段存在時(shí)耗較長(zhǎng)、費(fèi)用昂貴等不足,因此很難實(shí)現(xiàn)大面積,高通量的生產(chǎn)。膠體刻蝕不同于電子束刻蝕或者聚焦離子束刻蝕等傳統(tǒng)的光刻技術(shù),它具有成本低,制備快,產(chǎn)量高的特點(diǎn)。此外,利用膠體納米球作為掩模具有三維立體性,所以在制備三維尺度的納米結(jié)構(gòu)上,特別是多層超結(jié)構(gòu),具有傳統(tǒng)納米制造工藝無(wú)可替代的優(yōu)勢(shì)。因此,繼續(xù)探索膠體刻蝕工藝,拓展其圖案的多樣性,并提高器件性能,具有十分重要的意義。膠體刻蝕是利用自組裝等方法將納米級(jí)別的膠體納米球排列為密堆積結(jié)構(gòu),并與納米制造技術(shù)相結(jié)合的一種新的微納加工手段。其中二維周期性排布的膠體納米球作為蒸發(fā),沉積,蝕刻或壓印等的掩模板。如今,膠體刻蝕已廣泛地被接納,并被認(rèn)為是一種便捷,廉價(jià)且可重復(fù)制造有序納米結(jié)構(gòu)的有效方法。本文主要對(duì)膠體刻蝕過(guò)程中...

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖1-1Yee元胞空間單位的電磁場(chǎng)分量示意圖

哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文-3-z1=)HEyExtxy（(1-5)1=)ExHzHytyz（(1-6)1=)EyHxHztzx（(1-7)1=)EzHyHxtxy（(1-8)如圖1-1所示，麥克斯韋方程組的離散方法，主要計(jì)算基于Yee元胞單位空間內(nèi)的電磁場(chǎng)分布。圖1-1Ye....

圖1-3二維膠體陣列中蒸發(fā)引起的對(duì)流自組裝的應(yīng)力圖[19]

哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文-7-遷移的影響下，膠體顆粒可以自組裝形成二維或三維緊密堆積的膠體晶體。1992年，Denkov等人通過(guò)顯微鏡首先觀察到了溶劑蒸發(fā)形成自組裝二維膠體晶體的過(guò)程，并研究了溶劑蒸發(fā)過(guò)程中二維膠體晶體的形成機(jī)理[19]。他們提出，當(dāng)包含顆粒的溶液厚度近似等....

圖1-5單層二元膠體晶體的制造示意圖[24]

哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文-8-角密堆積的多晶單層薄膜[1]。1.3.2.2界面自組裝方法界面自組裝也是最早提出的制備二維或三維膠體晶體的方法之一。氣/液界面自組裝法的過(guò)程是將膠體微球懸浮液鋪展在液面上，由此觀察到在氣液界面上形成有序排列的晶體，之后再將膠體晶體轉(zhuǎn)移到干凈的基....

圖1-6尺寸比和體積比不同的二元膠體晶體SEM圖像[24]

哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文-9-圖1-6尺寸比和體積比不同的二元膠體晶體SEM圖像[24]1.3.2.3旋涂法旋涂法被認(rèn)為是制備二維或三維膠體晶體最快速且可重復(fù)性最高的方法[26,27]。在旋涂過(guò)程中，首先將一定濃度的膠體懸浮液添加到干凈的基底上。然后，由高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力....

本文編號(hào)：4041643